自己組織化とナノインプリントを利用したパターンドメディア作製(光記憶および一般)
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概要
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2.5インチガラスディスク上に全面に渡って一様に配列した磁性体ドットからなるパターンドメディアを作製した。磁性体ドットの加工は、ブロックコポリマーの自己組織化パターンをテンプレートとしてイオンミリングにより行った。ブロックコポリマーの自己組織化配列方向は、ナノインプリント法により作製されたレジストの溝構造により人工的に制御した。このような自己組織化パターンテンプレートを使ったリソグラフィーとナノインプリントによる自己組織化パターンの配列制御を組み合わせることで、円周トラック上に並んだ直径40nm高さ50nm間隔80nmのCoPtもしくはCoCrPtの磁性体ドットアレイを作製することに成功した。作製された磁性体ドットは強い垂直磁気異方性を示し、単磁区構造となっていることが示唆された。
- 2003-02-28
著者
-
喜々津 哲
(株)東芝, 研究開発センター
-
内藤 勝之
(株)東芝, 研究開発センター
-
櫻井 正敏
(株)東芝研究開発センター
-
鎌田 芳幸
(株)東芝研究開発センター
-
稗田 泰之
(株)日立製作所 中央研究所
-
稗田 泰之
東芝研究開発センター
-
稗田 泰之
(株)東芝 研究開発センター
-
浅川 鋼児
(株)東芝 研究開発センター
-
浅川 鋼児
(株)東芝
-
喜々津 哲
(株)東芝 研究開発センター
-
内藤 勝之
(株)東芝 研究開発センター
-
内藤 勝之
東芝(株)研究開発センター材料デバイス研究所
-
鎌田 芳幸
(株)東芝 研究開発センター
-
内藤 勝之
(株)東芝研究開発センター
-
喜々津 哲
(株)東芝
-
鎌田 芳幸
(株)東芝
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