ブロックポリマーの自己組織化によるナノリソグラフィーと電子材料への応用(<特集>複合高分子により形成される疑似結晶構造の最前線)
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概要
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電子デバイスの微細化はトップダウンによるリソグラフィー技術が牽引してきた.しかし加工サイズの微細化を今後も進めていくのは,技術的にもコストの面でも非常に難しくなっている.これに対し,分子の自己集合など自然の力を用いたボトムアップ技術の研究も盛んになってきた.特に10〜100nm程度の規則パターンを簡便に形成でき,既存の半導体プロセスとの親和性が良いブロックコポリマーを用いたリソグラフィーに注目が集まっていて,徐々にデバイス作成に取り入れられようとしている.
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