Takeda Ken-ichi | Hitachi, Ltd., Central Research Laboratory, Kokubunji, Tokyo 185-8601, Japan
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概要
関連著者
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河江 達也
九州大工
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Takeda Kazuyuki
Department Of Chemistry Graduate School Of Science Kyoto University:(present Address)division Of Adv
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武田 健一
日立製作所 中央研究所
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Takeda Ken-ichi
Central Research Laboratory Hitachi Ltd.
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Takeda Ken'ichi
Central Research Laboratory Hitachi Ltd.
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竹田 和義
Dep. Of Applied Quantum Physics Kyushu Univ. Fukuoka 812-8581 Jpn
-
Takeda K
Hitachi Ltd. Hitachi Research Laboratory
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Kawae Tatsuya
Department Of Applied Science Faculty Of Engineering Kyusyu University
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Kawae Tatsuya
Department Of Applied Quantum Physics Kyushu University
-
Takahashi Keita
Department Of Applied Science Faculty Of Engineering Kyushu University
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Takeda Kosei
Electro-chemical And Cancer Institute
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河江 達也
九大院工
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竹田 和義
九大院工
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武田 健一
日立製作所中央研究所
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河江 達也
九大工
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吉田 靖雄
九大工
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竹田 和義
九大工
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細越 裕子
阪府大院理:阪府大ナノ研
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井上 克也
広島大院理
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和田 統
九大院工
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日野出 憲治
日立製作所 中央研究所
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日野出 憲治
株式会社日立製作所中央研究所
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日野出 憲司
日立製作所. 中央研究所
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吉田 靖雄
ハンブルク大応物
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井上 克也
広大理
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龍崎 大介
日立製作所中央研究所
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Hinode Kenji
Central Research Laboratory Hitachi Lid.
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網代 芳民
京大工物エネ:京大院理
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浅野 貴行
九大院理
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稲垣 佑次
九大院工
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日高 雅子
九大工
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吉田 靖雄
九大院工
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古澤 健志
ルネサステクノロジー
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山口 日出
(株)日立製作所デバイス開発センタプロセス開発部
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稲垣 祐久
九大理
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綱代 芳民
九大理
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網代 芳民
京大院理
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山形 一夫
いわき明星大
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稲垣 祐次
九大院理
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川野 裕子
九大工
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和田 統
九大工
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貸谷 慶彦
九大工
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細越 裕子
阪府大理
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竹田 和義
九工大
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後藤 康
(株)日立製作所中央研究所
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近藤 誠一
日立製作所中央研究所
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古澤 健志
日立製作所中央研究所
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佐久間 憲之
日立製作所中央研究所
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町田 俊太郎
日立製作所中央研究所
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後藤 康
日立製作所中央研究所
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山口 日出
日立製作所デバイス開発センタ
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本間 喜夫
日立製作所中央研究所
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山形 一夫
神戸大 理
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後藤 康
(株)日立製作所 中央研究所
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後藤 康
日立製作所
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Hinode Kenji
Central Research Laboratory Hitachi Ltd.
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町田 俊太郎
(株)日立製作所 中央研究所
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Yamaguchi Atsuko
Central Research Laboratory Hitachi Ltd.
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本間 喜夫
(株)日立製作所 中央研究所
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Kawada Hiroki
Hitachi High-technologies Corp.
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Yamamoto Jiro
Central Research Laboratory Hitachi Ltd.
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Ryuzaki Daisuke
Central Research Laboratory Hitachi Ltd.
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NOGUCHI Junji
Hitachi, Ltd., Micro Device Division
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TAKEDA Ken-ichi
Hitachi, Ltd., Central Research Laboratory
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Noguchi Junji
Device Development Center Hitachi Ltd.
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Yamaguchi Hizuru
Device Development Center Hitachi Ltd.
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Hanaoka Yuko
Central Research Laboratory Hitachi Ltd.
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Kubo Maki
Hitachi Ltd. Micro Device Division
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Iizumi Takashi
Hitachi High-technologies Corp.
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奥西 巧一
新潟大理
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稲垣 祐次
九大院工
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松下 琢
名大院理
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和田 信雄
名大院理
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立岩 尚之
原子力機構先端研
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松本 和也
首都大理工
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田尻 恭之
福岡大理
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出口 博之
九工大工
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美藤 正樹
九工大工
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奥西 功一
新潟大理
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岡本 清美
東工大理
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清水 健吾
名大院理
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網代 芳民
京大理
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吉田 靖雄
フロリダ大
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細越 裕子
阪附大
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岡本 清美
東工大院理工
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坂井 徹
原研 SPring8
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高木 精志
九工大工
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藤井 伸治
東北大・院・生命科学
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前島 展也
分子研
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稲永 祐貴
九大院工
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木下 慶一郎
九大院工
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塩見 大輔
阪市大院理
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伊瀬 智章
阪市大院理
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小嵜 正敏
科学技術振興機構さきがけ
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岡田 恵次
科学技術振興機構さきがけ
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佐藤 和信
科学技術振興機構さきがけ
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工位 武治
科学技術振興機構さきがけ
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藤尾 和彦
九大院工
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中川 彰利
九大院工
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立岩 尚之
原研先端基礎研セ
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中家 義隆
九大院工
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田中 惇也
九大院工
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日高 雅子
九大院工
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北井 哲夫
九工大工
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松本 和也
九工大工
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田尻 恭之
九工大工
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釘宮 義和
名大院理
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細越 裕子
阪附大理
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Boucher J.-P.
CNRS(France)
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Grenier B.
CNRS(France)
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吉田 靖雄
九工大
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河江 達也
九工大
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細越 裕子
阪府大垣
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井上 克也
広大垣
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Takahashi Hideyuki
Graduate School Of Life Sciences Tohoku University
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中山 貴弘
日立製作所 情報制御システム事業部
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Grenier B.
Cea-grenoblel
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前島 展也
筑波大学大学院数理物質科学研究科
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石田 猛
日立製作所 中央研究所
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田切 克典
日立製作所 情報制御システム事業部
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藤田 藩
日立製作所 情報制御システム事業部
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武田 健一
日立 中央研究所
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日野出 憲治
日立 中央研究所
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大嶽 一郎
日立 基礎研究所
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大橋 直史
日立 デバイス開発センタ
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山口 日出
日立 デバイス開発センタ
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塩見 大輔
阪市大院理:科学技術振興機構さきがけ
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佐藤 和信
大阪市立大学大学院理学研究科
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工位 武治
大阪市立大学大学院理学研究科
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大橋 直史
株式会社日立製作所デバイス開発センタ半導体技術開発本部プロセス開発部
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福田 宏
株式会社日立製作所中央研究所
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工位 武治
大阪市立大学大学院理学研究科・理学部
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坂井 徹
原子力機構spring-8:兵庫県立大
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坂井 徹
Japan Atomic Energy Agency Spring-8
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長田 健一
(株)日立製作所中央研究所
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小柳 光正
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
福島 誉史
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
李 康旭
東北大学未来科学技術共同研究センター
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前島 辰也
分子研
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井瀬 智章
電通大量子物質工
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HINODE Kenji
Superconductivity Research Laboratory, International Superconductivity Technology Center
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北井 哲夫
九州工大工
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Greenier B.
CEA-Grenoble
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Kobayashi M
Department Of Bioengineering And Robotics Tohoku University
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朴澤 一幸
(株)日立製作所中央研究所ULSI研究部
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桜井 治彰
日立化成工業電子材料事業本部
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阿部 浩一
日立化成工業電子材料事業本部
-
福田 宏
日立製作所中央研究所
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出口 博之
九州工業大学
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Fujii Norihiko
岡山大学 内科
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山口 敦子
日立製作所中央研究所
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Takahashi H
Graduate School Of Life Sciences Tohoku University
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北井 哲夫
九州工大 工
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Fujii Nobuharu
Division Of Hematology And Oncology Okayama University Hospital
-
Fujii Nobuharu
Graduate School Of Life Sciences Tohoku University
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Hinode Kenji
Istec/srl
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北井 哲夫
九州工大・応物
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花岡 裕子
(株)日立製作所
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MIYAZAWA Yutaka
Graduate School of Life Sciences, Tohoku University
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TAKEDA Kazuyoshi
Research Institute for Bioresources, Okayama University
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Yamaguchi Atsumi
Ulsi Development Center Mitsubishi Electric Corporation
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Hoson T
Iss Science Project Office Institute Of Space And Astronautical Science Japan Aerospace Exploration
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奥西 巧一
大阪大学大学院理学研究科
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Fujii Nobuharu
Graduate School Of Sciences Tohoku University
-
Fujii Nobuharu
Inst. Genetic Ecol. Tohoku Univ.
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古田 太
(株)日立製作所基礎研究所
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川田 洋揮
日立ハイテクノロジーズ那珂事業所
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Suge Hiroshi
Graduate School of Life Sciences, Tohoku University
-
KATO Fumie
Graduate School of Life Sciences, Tohoku University
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ARAKI Masaru
Graduate School of Life Sciences, Tohoku University
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YAMAGUCHI Atsuko
Central Research Laboratory, Hitachi, Ltd.
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YAMAMOTO Jiro
Central Research Laboratory, Hitachi, Ltd.
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Yamaguchi Atsuko
Association Of Super-advanced Electronics Technologies:(present Address)hitachi Central Laboratory
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Kodama Daisuke
Central Research Laboratory Hitachi Ltd.
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伊瀬 智章
阪市大院理:科学技術振興機構さきがけ
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Hoshino Tomoki
Graduate School Of Science Osaka Prefecture University
-
Kato Fumie
Graduate School Of Life Sciences Tohoku University
-
Suge H
Graduate School Of Life Sciences Tohoku University
-
Araki Masaru
Graduate School Of Life Sciences Tohoku University
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Kondo Seiichi
Central Research Laboratory Hitachi Ltd.
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IIZUMI Takashi
Hitachi High-Technologies Corporation
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YAMAGUCHI Hizuru
Renesas Technology Corp.
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NOGUCHI Junji
Device Development Center, Hitachi Ltd.
-
YAMAGUCHI Hizuru
Device Development Center, Hitachi Ltd.
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大橋 直史
株式会社日立製作所デバイス開発センタ
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SAITO Tatsuyuki
Hitachi, Ltd., Micro Device Division
-
Maruyama Hiroyuki
Hitachi Ltd. Micro Device Division
-
大橋 直史
日立 デバイス開セ
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TSUNEDA Ruriko
Hitachi, Ltd., Central Research Laboratory
-
MAKABE Kazuya
Renesas Technology Corp.
-
HANAOKA Yuko
Central Research Laboratory, Hitachi, Ltd.
-
Takahashi Hideyuki
Graduate School Of Agricultural And Life Sciences The University Of Tokyo
-
Morita Yasumasa
Graduate School Of Life Sciences Tohoku University
-
Miyazawa Yutaka
Graduate School Of Life Sciences Tohoku University
-
Ohashi Naofumi
Semiconductor Leading Edge Technologies Inc.
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山口 敦子
日立製作所 中央研究所
-
藤井 伸治
Graduate School Of Life Sciences Tohoku University
-
Takeda Kazuyoshi
Research Institute For Bioresources Okayama University
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Tonomura Osamu
Central Research Laboratory Hitachi Ltd.
-
Takahashi Hideyuki
Graduate School Of Sciences Tohoku University
著作論文
- ポーラスlow-k膜のk値上昇(TDDI)メカニズムと信頼性向上技術
- 21pRB-3 S=1/2擬一次元量子スピン系DMACuCl_3の単結晶試料における磁場中物性(21pRB 量子スピン系(1次元),領域3(磁性,磁気共鳴))
- 27aSB-1 S=1/2擬一次元量子スピン系DMACuCl_3の磁場中物性(27aSB 量子スピン系(一次元系),領域3(磁性,磁気共鳴))
- 21pPSB-9 S=1/2擬一次元量子スピン系DMACuCl_3の磁場中物性についての研究(領域3ポスターセッション,量子スピン系(一次元系),量子スピン系(二次元系),量子スピン系(クラスター系,および一般),フラストレーション系,磁気共鳴一般,実験技術開発,磁性一般,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 18aPS-107 2d-HAF蟻酸Mn2Ureaの磁場によるスピン対称性のクロスオーバーとBKT転移(18aPS 領域3ポスターセッション(磁性),領域3(磁性,磁気共鳴))
- 30aSB-6 純有機磁性体F_5PNNの磁場誘起秩序相(30aSB 量子スピン系(一次元系),領域3(磁性,磁気共鳴))
- 19pXA-14 有機磁性体トリラジカルの磁気相図(分子性固体,領域7(分子性固体・有機導体))
- 19pPSA-93 希土類元素の静水圧下電気抵抗測定(領域8ポスターセッション(f電子系統II),領域8(強相関系 : 高温超伝導,強相関f電子系など))
- 19pPSA-72 Pr_xLa_Pb_3(x=1,0.99,0.98)の磁場中物性(領域8ポスターセッション(f電子系統II),領域8(強相関系 : 高温超伝導,強相関f電子系など))
- 22pXH-8 希土類金属強磁性体(Gd, Tb, Dy, Ho)の磁気秩序温度の圧力効果(化合物磁性・f電子系磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 21pPSB-14 2d-HAF蟻酸Mn2Ureaの磁場によるスピン対称性のクロスオーバーとBKT転移(領域3ポスターセッション,量子スピン系(一次元系),量子スピン系(二次元系),量子スピン系(クラスター系,および一般),フラストレーション系,磁気共鳴一般,実験技術開発,磁性一般,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 20pYB-10 S=1/2反強磁性ボンド交代鎖F_5PNNの磁場中誘電率II(量子スピン系(一次元),領域3(磁性,磁気共鳴))
- 20pYB-8 擬一次元純有機磁性体F_5PNNの構造相転移(量子スピン系(一次元),領域3(磁性,磁気共鳴))
- 20aXH-6 有機ボンド交代鎖F_5PNNの磁場誘起秩序(領域3,領域11合同シンポジウム,主題 : 低次元量子スピン系の新しい非整合秩序 : スピンのスーパーソリッド?,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 20aXH-6 有機ポンド交代鎖の磁場誘起秩序(領域3,領域11合同シンポジウム 主題 : 低次元量子スピン系の新しい非整合秩序 : スピンのスーパーソリッド?,領域11(統計力学,物性基礎論,応用数学,力学,流体物理))
- 電気抵抗比による市販ICのエレクトロマイグレーション信頼度評価(低誘電率層間膜,配線材料及び一般)
- ダマシンCu配線における絶縁劣化現象
- 低寄生容量銅多層配線のための新しいプロセス技術 : 砥粒フリー銅CMP(ACP)及び新低誘電率材料:メチルシリコンオキシカーバイド(MTES)
- ED2000-47 / SDM2000-47 低寄生容量銅多層配線のための新しいプロセス技術 : 砥粒フリー鋼CMP(ACP)及び新低誘電率材料:メチルシリコンオキシカーバイド(MTES)
- Cu電界ドリフトによる絶縁破壊
- Cu/low-k配線パターンのラインエッジラフネス評価(配線・実装技術と関連材料技術)
- Characteristics of cell division and cell elongation that confer deep-seeding tolerance in wheat cultivar Hong Mang Mai
- Dielectric Breakdown and Light Emission in Copper Damascene Structure under Bias-Temperature Stress
- Characterization of Line-edge Roughness in Cu/low-k Interconnect Pattern
- Increase in Electrical Resistivity of Copper and Aluminum Fine Lines
- Characterization of Line-Edge Roughness in Cu/Low-$k$ Interconnect Pattern
- Resistivity Increase In Ultrafine-Line Copper Conductor for ULSIs : Semiconductors
- Suppression of Leakage Current of Metal--Insulator--Semiconductor Ta2O5 Capacitors with Al2O3/SiON Buffer Layer
- Light Emission Analysis of Dielectric Breakdown in Stressed Damascene Copper Interconnection
- Dependence of Time-Dependent Dielectric Breakdown Lifetime on the Structure in Cu Metallization
- Influence of Cu-Ion Migration and Fine-Line Effect on Time-Dependent Dielectric Breakdown Lifetime of Cu Interconnects
- 3次元システムLSI開発のためのチップレベルTSVプロセス(次世代電子機器を支える三次元積層技術と先端実装の設計・評価技術論文)