大嶽 一郎 | 日立 基礎研究所
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概要
関連著者
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大嶽 一郎
日立 基礎研究所
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三宅 竜也
日立基礎研
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日立基礎研
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日立基礎研
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日野出 憲司
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武田 健一
日立 中央研究所
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日野出 憲治
日立 中央研究所
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日立 デバイス開発センタ
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大橋 直史
株式会社日立製作所デバイス開発センタ半導体技術開発本部プロセス開発部
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日立基礎研
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武田 健一
日立製作所中央研究所
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株式会社日立製作所デバイス開発センタ
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日立基礎研
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日立基礎研
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Edward S.Gillman
日立基礎研
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Petek Hrvoji
日立基礎研
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Takeda Ken'ichi
Central Research Laboratory Hitachi Ltd.
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Takeda Ken-ichi
Central Research Laboratory, Hitachi Ltd., Kokubunji-shi, Tokyo 185-8601, Japan
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Takeda Ken-ichi
Hitachi, Ltd., Central Research Laboratory, 1-280 Higashikoigakubo Kokubunji-shi, Tokyo 185-8601, Japan
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Takeda Ken-ichi
Hitachi, Ltd., Central Research Laboratory, Kokubunji, Tokyo 185-8601, Japan
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Takeda Ken-ichi
Central Research Laboratory, Hitachi Ltd., Higashikoigakubo, Kokubunji, Tokyo 185-8601, Japan
著作論文
- Cu電界ドリフトによる絶縁破壊
- 15p-DJ-1 分子線散乱法を用いた2次元表面相の研究III : C/W(110)系でのRHEED観察
- 29a-PS-63 高分解能ヘリウム原子線散乱装置の試作
- 29p-PSB-43 off cut W(110)のBa吸着による仕事関数の変化
- 2p-PSA-54 分子線装置の試作とその予備実験結果
- 2p-PSA-22 TiO_2(110)表面でのHe原子線散乱
- 30a-PS-37 CaF_2(111)表面からのHe原子線散乱