大橋 直史 | 株式会社日立製作所デバイス開発センタ

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概要

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• 株式会社日立製作所デバイス開発センタの論文著者

関連著者

• 大橋 直史

  株式会社日立製作所デバイス開発センタ半導体技術開発本部プロセス開発部

• 大橋 直史

  株式会社日立製作所デバイス開発センタ

• 齋藤 達之

  (株)日立製作所マイクロデバイス事業部

• 和田 真一郎

  (株)日立製作所 マイクロデバイス事業部

• 斎藤 達之

  (株)日立製作所デバイス開発センタプロセス開発部

• 和田 慎一郎

  日立製作所 デバイス開発センタ

• 渡辺 邦彦

  日立製作所 デバイス開発センタ

• 齋藤 達之

  (株)日立製作所

• 大橋 直史

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 菊池 俊之

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 橋本 尚

  (株)日立製作所 マイクロデバイス事業部

• 渡辺 邦彦

  日立製作所デバイス開発センタ

• 近藤 将夫

  日立製作所中央研究所

• 斎藤 達之

  日立製作所デバイス開発センタ

• 本間 善夫

  日立製作所中央研究所

• 島 明生

  日立製作所デバイス開発センタ

• 和田 真一郎

  日立製作所

• 山口 日出

  (株)日立製作所デバイス開発センタプロセス開発部

• 菊池 俊之

  日立製作所 デバイス開発センタ

• 橋本 尚

  日立製作所 デバイス開発センタ

• 島 明生

  日立製作所中央研究所

• 近藤 将夫

  (株)日立製作所中央研究所

• 和田 真一郎

  日立製作所デバイス開発センタ

• 大橋 直史

  日立製作所デバイス開発センタ

• 平澤 茂樹

  (株)日立製作所 機械研究所

• 根津 広樹

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 吉田 誠

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 丸山 裕之

  株式会社日立製作所デバイス開発センタ半導体技術開発本部プロセス開発部

• 山口 日出

  株式会社日立製作所デバイス開発センタ半導体技術開発本部プロセス開発部

• 浅野 勇

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 山本 直樹

  (株)日立製作所中央研究所

• 平澤 茂樹

  (株)日立製作所

• 山本 直樹

  高知工科大学 総合研究所

• 榎本 裕之

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 熊内 隆宏

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 川北 恵三

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 梅澤 唯史

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 只木 芳隆

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 平澤 茂樹

  神戸大 大学院工学研究科

• 根津 広樹

  日立デバイス開発センタ

• 根津 広樹

  (株)日立製作所

• 山本 直樹

  (株)日立製作所

• 中原 和彦

  三菱電機株式会社

• 日野出 憲治

  日立製作所 中央研究所

• 日野出 憲治

  株式会社日立製作所中央研究所

• 斎藤 洋子

  日立機械研

• 斎藤 洋子

  (株)日立製作所

• 大島 隆文

  日立・マイクロデバイス

• 武田 健一

  日立製作所 中央研究所

• 丸山 裕之

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 日野出 憲司

  日立製作所. 中央研究所

• 武田 健一

  日立 中央研究所

• 日野出 憲治

  日立 中央研究所

• 大嶽 一郎

  日立 基礎研究所

• 大橋 直史

  日立 デバイス開発センタ

• 山口 日出

  日立 デバイス開発センタ

• 伊藤 康之

  三菱電機株式会社情報技術総合研究所

• 大和田 伸郎

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 大島 隆文

  (株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部

• 山田 洋平

  株式会社日立製作所デバイス開発センタ半導体技術開発本部プロセス開発部

• 小西 信博

  株式会社日立製作所デバイス開発センタ半導体技術開発本部プロセス開発部

• 大島 隆文

  株式会社日立製作所デバイス開発センタ半導体技術開発本部プロセス開発部

• 佐藤 明

  株式会社日立超LSIシステムズVLSI開発本部プロセス技術開発部

• 齋藤 達之

  株式会社日立製作所デバイス開発センタ

• 今井 俊則

  株式会社日立製作所デバイス開発センタ

• 野口 純司

  株式会社日立製作所デバイス開発センタ

• 久保 真紀

  株式会社日立製作所デバイス開発センタ

• 伊藤 祐子

  株式会社日立製作所デバイス開発センタ

• 大森 荘平

  株式会社日立製作所デバイス開発センタ

• 田丸 剛

  株式会社日立製作所デバイス開発センタ

• 金子 進一

  三菱電機株式会社

• 大和田 伸郎

  (株)日立製作所

• 伊藤 康之

  三菱電機株式会社

• 小西 信博

  (株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部

• 久保 真紀

  (株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部

• 武田 健一

  日立製作所中央研究所

• Takeda Ken-ichi

  Central Research Laboratory Hitachi Ltd.

• 野口 純司

  (株)日立製作所マイクロデバイス事業部

• 野口 純司

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 大橋 直史

  日立 デバイス開セ

• Takeda Ken'ichi

  Central Research Laboratory Hitachi Ltd.

• 山田 洋平

  株式会社日立製作所

• Takeda Ken-ichi

  Central Research Laboratory, Hitachi Ltd., Kokubunji-shi, Tokyo 185-8601, Japan

• Takeda Ken-ichi

  Hitachi, Ltd., Central Research Laboratory, 1-280 Higashikoigakubo Kokubunji-shi, Tokyo 185-8601, Japan

• Takeda Ken-ichi

  Hitachi, Ltd., Central Research Laboratory, Kokubunji, Tokyo 185-8601, Japan

• Takeda Ken-ichi

  Central Research Laboratory, Hitachi Ltd., Higashikoigakubo, Kokubunji, Tokyo 185-8601, Japan

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著作論文

• Cu電界ドリフトによる絶縁破壊
• パターン付半導体ウエハ表面の回転塗布膜の乾燥収縮過程の流動形状解析
• 多層配線構造に対するSOGプロセスの改良
• 砥粒フリー研磨剤を用いたCu-CMP技術( : 低誘電率層間膜及び配線技術)
• W-CVDの優先成長を利用した全面バリアメタル被覆Cu配線( : 低誘電率層間膜及び配線技術)
• Cu配線を用いた超高速SRAM向け0.2μm BiCMOSプロセス技術
• Cu配線を用いた超高速SRAM向け0.2μm BiCMOSプロセス技術
• Cu配線を用いた超高速SRAM向け0.2μm BiCMOSプロセス技術
• DCCPW線路を用いた光・マイクロ波受信モジュール
• ロジック-DRAM混載技術
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