丸山 裕之 | (株)日立製作所デバイス開発センタ

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概要

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• 丸山 裕之

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 丸山 裕之

  株式会社日立製作所デバイス開発センタ半導体技術開発本部プロセス開発部

• 日野出 憲治

  日立製作所 中央研究所

• 日野出 憲治

  株式会社日立製作所中央研究所

• 大島 隆文

  日立・マイクロデバイス

• 古澤 健志

  ルネサステクノロジー

• 日野出 憲治

  (株)日立製作所中央研究所ULSI研究部

• 大島 隆文

  (株)日立製作所デバイス開発センタプロセス開発部

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  (株)日立製作所デバイス開発センタプロセス開発部

• 前川 厚志

  日立超LSIシステムズ(株)

• 宇野 正一

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• 福田 琢也

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• 小林 伸好

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 古澤 健志

  (株)日立製作所中央研究所

• 日野出 憲司

  日立製作所. 中央研究所

• 小林 伸好

  日立製作所. デバイス開発センタ

• 大島 隆文

  (株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部

• 福田 琢也

  技術研究組合超先端電子技術開発機構(ASET)

• 宇野 正一

  (株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部

• 斎藤 洋子

  日立機械研

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• 平澤 茂樹

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• 大橋 直史

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• 大橋 直史

  株式会社日立製作所デバイス開発センタ半導体技術開発本部プロセス開発部

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• 平澤 茂樹

  神戸大 大学院工学研究科

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著作論文

• ED2000-135 / SDM2000-117 / ICD-2000-71 低誘電率層間材料を用いたCuデュアルダマシン配線技術
• ED2000-135 / SDM2000-117 / ICD2000-71 低誘電率層間材料を用いたCuデュアルダマシン配線技術
• パターン付半導体ウエハ表面の回転塗布膜の乾燥収縮過程の流動形状解析
• ED2000-135 / SDM2000-117 / ICD2000-71 低誘電率層間材料を用いたCuデュアルダマシン配線技術

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