小林 伸好 | 日立製作所. デバイス開発センタ

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概要

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• 日立製作所. デバイス開発センタの論文著者

関連著者

• 小林 伸好

  日立製作所. デバイス開発センタ

• 福田 琢也

  技術研究組合超先端電子技術開発機構(ASET)

• 日野出 憲治

  日立製作所 中央研究所

• 日野出 憲治

  株式会社日立製作所中央研究所

• 大島 隆文

  日立・マイクロデバイス

• 古澤 健志

  ルネサステクノロジー

• 青木 英雄

  (株)日立製作所デバイス開発センタプロセス開発部

• 前川 厚志

  日立超LSIシステムズ(株)

• 小林 伸好

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 古澤 健志

  (株)日立製作所中央研究所

• 日野出 憲司

  日立製作所. 中央研究所

• 大島 隆文

  (株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部

• 丸山 裕之

  株式会社日立製作所デバイス開発センタ半導体技術開発本部プロセス開発部

• 日野出 憲治

  (株)日立製作所中央研究所ULSI研究部

• 大島 隆文

  (株)日立製作所デバイス開発センタプロセス開発部

• 丸山 裕之

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 宇野 正一

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 福田 琢也

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 宇野 正一

  (株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部

• 福田 琢也

  日立製作所. デバイス開発センタ

• 宮崎 博史

  (株)日立製作所 半導体グループ

• 丸泉 琢也

  日立製作所 基礎研究所

• 池川 正人

  (株)目立製作所機械研究所

• 大島 隆文

  日立製作所. デバイス開発センタ

• 青木 英雄

  日立製作所. デバイス開発センタ

• 丸山 裕之

  日立製作所. デバイス開発センタ

• 宮崎 博史

  日立製作所. デバイス開発センタ

• 小西 信博

  日立製作所. デバイス開発センタ

• 深田 晋一

  日立製作所. デバイス開発センタ

• 湯之上 隆

  日立製作所. デバイス開発センタ

• 堀田 尚二

  日立製作所. デバイス開発センタ

• 野尻 一男

  日立製作所. デバイス開発センタ

• 徳永 尚文

  日立製作所. デバイス開発センタ

• 山口 憲

  (株)日立製作所中央研究所

• 本間 喜夫

  (株)日立製作所中央研究所

• 山口 憲

  アドバンスソフト株式会社技術第1部

• 深田 晋一

  (株)日立製作所 デバイス開発センタ

• 楠川 喜久雄

  (株)日立製作所中央研究所

• 宮崎 博史

  (株)日立製作所中央研究所

• 小西 信博

  (株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部

• 牛尾 二郎

  (株)日立製作所 中央研究所

• 山口 憲

  日立製作所中央研究所

• 牛尾 二郎

  日立製作所中央研究所

• 入江 亮太郎

  日立製作所中央研究所

• 竹村 佳昭

  日立製作所中央研究所

• 池川 正人

  日立製作所機械研究所

• 佐々木 英二

  日立超lsiエンジニアリング

• 細川 隆

  日立製作所.半導体事業部.半導体技術開発センタ

• 小林 伸好

  日立製作所中央研究所

• 徳永 尚文

  日立 デバイス開セ

• 本間 喜夫

  (株)日立製作所 中央研究所

• 竹村 佳昭

  日立製作所基礎研究所

• 牛尾 二郎

  (株)日立製作所基礎研究所

• 丸泉 琢也

  武蔵工業大学工学部電気電子工学科

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著作論文

• ED2000-135 / SDM2000-117 / ICD-2000-71 低誘電率層間材料を用いたCuデュアルダマシン配線技術
• ED2000-135 / SDM2000-117 / ICD2000-71 低誘電率層間材料を用いたCuデュアルダマシン配線技術
• 有機SOG(k=2.9)を用いた0.18μm CMOS用の0.5μmピッチCuデュアルダマシン配線
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• 低抵抗・低ε材料による平たん化多層配線の課題
• 分子シミュレーションに基づくW-CVDプロセス解析
• フルオロシランを用いたHDP-CVDによる高信頼SiOF膜形成

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