大島 隆文 | 日立・マイクロデバイス
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概要
関連著者
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大島 隆文
日立・マイクロデバイス
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大島 隆文
(株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部
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大島 隆文
(株)日立製作所デバイス開発センタプロセス開発部
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日野出 憲治
日立製作所 中央研究所
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日野出 憲治
株式会社日立製作所中央研究所
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青木 英雄
(株)日立製作所デバイス開発センタプロセス開発部
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日野出 憲司
日立製作所. 中央研究所
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丸山 裕之
株式会社日立製作所デバイス開発センタ半導体技術開発本部プロセス開発部
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日野出 憲治
(株)日立製作所中央研究所ULSI研究部
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前川 厚志
日立超LSIシステムズ(株)
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宇野 正一
(株)日立製作所デバイス開発センタ
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小林 伸好
日立製作所. デバイス開発センタ
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福田 琢也
技術研究組合超先端電子技術開発機構(ASET)
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宇野 正一
(株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部
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山田 明
東京工業大学大学院理工学研究科電子物理工学専攻
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小長井 誠
東京工業大学大学院理工学研究科電子物理工学専攻
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古澤 健志
ルネサステクノロジー
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丸山 裕之
(株)日立製作所デバイス開発センタ
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福田 琢也
(株)日立製作所デバイス開発センタ
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小林 伸好
(株)日立製作所デバイス開発センタ
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古澤 健志
(株)日立製作所中央研究所
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石川 憲輔
(株)日立製作所マイクロデバイス事業部
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小長井 誠
東工大
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小西 信博
(株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部
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大島 隆文
東京工業大学工学部
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小長井 誠
東京工業大学
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山田 明
東京工業大学
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田中 利広
株式会社ルネサステクノロジ
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山木 貴志
株式会社ルネサステクノロジ
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品川 裕
株式会社ルネサステクノロジ
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平木 充
株式会社ルネサステクノロジ設計基盤開発部
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岩崎 富生
(株)日立製作所機械研究所
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松原 清
(株) 日立製作所 半導体グループ
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山口 日出
(株)日立製作所デバイス開発センタプロセス開発部
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斎藤 達之
(株)日立製作所デバイス開発センタプロセス開発部
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石川 憲輔
(株)日立製作所デバイス開発センタプロセス開発部
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藤戸 正道
(株)日立超LSIシステムズ
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品川 裕
(株)日立超LSIシステムズ
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鈴川 一文
(株)日立超LSIシステムズ
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河合 洋造
(株)日立超LSIシステムズ
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三科 大介
(株)日立超LSIシステムズ
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窪田 裕之
(株) 日立製作所 半導体グループ
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齋藤 達之
(株)日立製作所
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齋藤 達之
(株)日立製作所マイクロデバイス事業部
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岩崎 富生
(株)日立製作所 機械研究所
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岩崎 富生
(株)日立製作所
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太田 裕之
日立機械研
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高橋 清
東京理科大学工学部
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島津 ひろみ
日立機械研
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太田 裕之
日立・機械研
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島津 ひろみ
日立・機械研
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島津 ひろみ
(株)日立製作所機械研究所
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岩崎 富生
日立・機械研
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石川 憲輔
日立・マイクロデバイス
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福田 琢也
日立製作所. デバイス開発センタ
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大島 隆文
日立製作所. デバイス開発センタ
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青木 英雄
日立製作所. デバイス開発センタ
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丸山 裕之
日立製作所. デバイス開発センタ
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宮崎 博史
日立製作所. デバイス開発センタ
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小西 信博
日立製作所. デバイス開発センタ
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深田 晋一
日立製作所. デバイス開発センタ
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湯之上 隆
日立製作所. デバイス開発センタ
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堀田 尚二
日立製作所. デバイス開発センタ
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野尻 一男
日立製作所. デバイス開発センタ
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徳永 尚文
日立製作所. デバイス開発センタ
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田中 利広
(株)日立製作所 半導体グループ
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窪田 裕之
(株)日立製作所 半導体グループ
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山木 貴志
(株)日立製作所 半導体グループ
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松原 清
(株)日立製作所 半導体グループ
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平木 充
(株)日立製作所 半導体グループ
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田中 利広
(株) 日立製作所 半導体グループ
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大島 隆文
(株) 日立製作所 デバイス開発センタ
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阿部 園子
(株) 日立製作所 半導体グループ
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山木 貴志
(株) 日立製作所 半導体グループ
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宅間 茂
(株) 日立製作所 半導体グループ
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志波 和佳
(株) 日立製作所 半導体グループ
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黒田 謙一
(株) 日立製作所 半導体グループ
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大須賀 宏
(株) 日立製作所 半導体グループ
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増島 勝宏
(株) 日立製作所 半導体グループ
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平木 充
(株) 日立製作所 半導体グループ
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黒田 謙一
日立製作所半導体事業部
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南方 浩志
(株)富士通研究所
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大橋 直史
株式会社日立製作所デバイス開発センタ半導体技術開発本部プロセス開発部
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山田 洋平
株式会社日立製作所デバイス開発センタ半導体技術開発本部プロセス開発部
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小西 信博
株式会社日立製作所デバイス開発センタ半導体技術開発本部プロセス開発部
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大島 隆文
株式会社日立製作所デバイス開発センタ半導体技術開発本部プロセス開発部
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山口 日出
株式会社日立製作所デバイス開発センタ半導体技術開発本部プロセス開発部
-
佐藤 明
株式会社日立超LSIシステムズVLSI開発本部プロセス技術開発部
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深田 晋一
(株)日立製作所 デバイス開発センタ
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芦原 洋司
(株)日立製作所マイクロデバイス事業部
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笹島 勝博
(株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部
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野口 純司
(株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部
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大田黒 彰
(株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部
-
久保 真紀
(株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部
-
津金 賢
(株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部
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阿部 克也
東京工業大学 工学部
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高橋 清
東京工業大学工学部電子物理工学科
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金井 正和
東京工業大学工学部
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南方 浩志
東京工業大学工学部
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佐野 正
日立製作所
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徳永 尚文
日立 デバイス開セ
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宮崎 博史
(株)日立製作所 半導体グループ
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高橋 清
東工大工
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大橋 直史
株式会社日立製作所デバイス開発センタ
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野口 純司
(株)日立製作所マイクロデバイス事業部
-
野口 純司
(株)日立製作所デバイス開発センタ
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斎藤 達之
(株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部
-
野口 純司
(株)日立製作所
-
山田 洋平
株式会社日立製作所
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小西 信博
(株)日立製作所
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高橋 清
東京工業大学・工学部
著作論文
- 銅配線構造における応力誘起ボイドに関する検討(S05-5 ナノ・マイクロ構造体の信頼性,S05 薄膜の強度物性と信頼性)
- Cu配線のストレスマイグレーションによるVia劣化とその対策
- ED2000-135 / SDM2000-117 / ICD-2000-71 低誘電率層間材料を用いたCuデュアルダマシン配線技術
- ED2000-135 / SDM2000-117 / ICD2000-71 低誘電率層間材料を用いたCuデュアルダマシン配線技術
- 有機SOG(k=2.9)を用いた0.18μm CMOS用の0.5μmピッチCuデュアルダマシン配線
- 階層化ワードドライバと位相シフト昇圧回路を用いた512kB 60MHzエンベデッドフラッシュメモリ
- 32ビットRISCマイクロコントローラに内蔵する3.3V90MHzフラッシュモジュール
- 砥粒フリー研磨剤を用いたCu-CMP技術( : 低誘電率層間膜及び配線技術)
- ED2000-135 / SDM2000-117 / ICD2000-71 低誘電率層間材料を用いたCuデュアルダマシン配線技術
- 低圧W-CVDを用いたCu配線の自己整合メタルキャップ技術(低誘電率層間膜,配線材料及び一般)
- 光CVD法による低温Siエピタキシャル成長における高濃度ドーピング及び接合の形成
- 光CVD法によるSi薄膜の低温選択エピタキシャル成長
- Siの低温エピタキシャル成長におけるSiH_2Cl_2添加効果