大田黒 彰 | (株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部

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概要

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• (株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部の論文著者

関連著者

• 岩崎 富生

  (株)日立製作所機械研究所

• 大島 隆文

  日立・マイクロデバイス

• 大島 隆文

  (株)日立製作所デバイス開発センタプロセス開発部

• 斎藤 達之

  (株)日立製作所デバイス開発センタプロセス開発部

• 石川 憲輔

  (株)日立製作所デバイス開発センタプロセス開発部

• 宇野 正一

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 齋藤 達之

  (株)日立製作所

• 大島 隆文

  (株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部

• 石川 憲輔

  (株)日立製作所マイクロデバイス事業部

• 齋藤 達之

  (株)日立製作所マイクロデバイス事業部

• 岩崎 富生

  (株)日立製作所 機械研究所

• 芦原 洋司

  (株)日立製作所マイクロデバイス事業部

• 笹島 勝博

  (株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部

• 野口 純司

  (株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部

• 小西 信博

  (株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部

• 大田黒 彰

  (株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部

• 久保 真紀

  (株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部

• 津金 賢

  (株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部

• 岩崎 富生

  (株)日立製作所

• 宇野 正一

  (株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部

• 野口 純司

  (株)日立製作所マイクロデバイス事業部

• 野口 純司

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 野口 純司

  (株)日立製作所

• 小西 信博

  (株)日立製作所

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著作論文

• 低圧W-CVDを用いたCu配線の自己整合メタルキャップ技術(低誘電率層間膜,配線材料及び一般)

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