斎藤 達之 | (株)日立製作所デバイス開発センタプロセス開発部

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関連著者

• 斎藤 達之

  (株)日立製作所デバイス開発センタプロセス開発部

• 齋藤 達之

  (株)日立製作所

• 齋藤 達之

  (株)日立製作所マイクロデバイス事業部

• 斎藤 達之

  (株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部

• 和田 真一郎

  (株)日立製作所 マイクロデバイス事業部

• 山口 日出

  (株)日立製作所デバイス開発センタプロセス開発部

• 和田 慎一郎

  日立製作所 デバイス開発センタ

• 渡辺 邦彦

  日立製作所 デバイス開発センタ

• 菊池 俊之

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 大橋 直史

  株式会社日立製作所デバイス開発センタ半導体技術開発本部プロセス開発部

• 橋本 尚

  (株)日立製作所 マイクロデバイス事業部

• 渡辺 邦彦

  日立製作所デバイス開発センタ

• 近藤 将夫

  日立製作所中央研究所

• 斎藤 達之

  日立製作所デバイス開発センタ

• 本間 善夫

  日立製作所中央研究所

• 島 明生

  日立製作所デバイス開発センタ

• 大橋 直史

  株式会社日立製作所デバイス開発センタ

• 和田 真一郎

  日立製作所

• 斎藤 洋子

  日立機械研

• 斎藤 洋子

  (株)日立製作所

• 菊池 俊之

  日立製作所 デバイス開発センタ

• 橋本 尚

  日立製作所 デバイス開発センタ

• 平澤 茂樹

  (株)日立製作所 機械研究所

• 島 明生

  日立製作所中央研究所

• 近藤 将夫

  (株)日立製作所中央研究所

• 平澤 茂樹

  (株)日立製作所

• 和田 真一郎

  日立製作所デバイス開発センタ

• 大橋 直史

  日立製作所デバイス開発センタ

• 平澤 茂樹

  神戸大 大学院工学研究科

• 大島 隆文

  日立・マイクロデバイス

• 大島 隆文

  (株)日立製作所デバイス開発センタプロセス開発部

• 石川 憲輔

  (株)日立製作所デバイス開発センタプロセス開発部

• 生田目 俊秀

  (株)日立製作所日立研究所

• 大島 隆文

  (株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部

• 平谷 正彦

  (株)日立製作所 中央研究所

• 石川 憲輔

  (株)日立製作所マイクロデバイス事業部

• 平谷 正彦

  Hitachi Europe Ltd. Whitebrook Park

• 中村 吉孝

  エルピーダメモリ株式会社

• 浅野 勇

  エルピーダメモリ株式会社

• 飯島 晋平

  エルピーダメモリ株式会社

• 佐伯 智則

  (株)日立製作所生産技術研究所

• 二瀬 卓也

  (株)日立超LSIシステムズ

• 山本 智志

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 関口 敏宏

  エルピーダメモリ株式会社

• 浅野 勇

  エルピーダメモリ(株)

• 生田目 俊秀

  (株)半導体先端テクノロジーズ(selete):(現)(独)物質・材料研究機構

• 中村 吉孝

  エルピーダメモリ(株)

• 中原 和彦

  三菱電機株式会社

• 日野出 憲治

  日立製作所 中央研究所

• 日野出 憲治

  株式会社日立製作所中央研究所

• 岩崎 富生

  (株)日立製作所機械研究所

• 日野出 憲治

  (株)日立製作所中央研究所ULSI研究部

• 青木 英雄

  (株)日立製作所デバイス開発センタプロセス開発部

• 宇野 正一

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 日野出 憲司

  日立製作所. 中央研究所

• 伊藤 康之

  三菱電機株式会社情報技術総合研究所

• 平沢 茂樹

  (株)日立製作所 機械研究所 茨城県

• 金子 進一

  三菱電機株式会社

• 伊藤 康之

  三菱電機株式会社

• 岩崎 富生

  (株)日立製作所 機械研究所

• 芦原 洋司

  (株)日立製作所マイクロデバイス事業部

• 笹島 勝博

  (株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部

• 野口 純司

  (株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部

• 小西 信博

  (株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部

• 大田黒 彰

  (株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部

• 久保 真紀

  (株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部

• 津金 賢

  (株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部

• 関口 敏芳

  エルピーダメモリ株式会社

• 二瀬 卓也

  株式会社日立超LSIシステムズ

• 岩崎 富生

  (株)日立製作所

• 宇野 正一

  (株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部

• 野口 純司

  (株)日立製作所マイクロデバイス事業部

• 野口 純司

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

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  (株)日立製作所

• 小西 信博

  (株)日立製作所

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著作論文

• Cu配線のストレスマイグレーションによるVia劣化とその対策
• (8)半導体基板表面のミクロ溝における銅スパッタ膜リフロー現象の流動形状変化に及ぼす形状パラメータの影響の解析的検討
• 半導体基板表面のミクロ溝における銅スパッタ膜リフロー現象の流動形状変化に及ぼす形状パラメータの影響の解析的検討
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• 0.10μm DRAM用MIM/Ta_2O_5キャパシタプロセスの開発
• 0.10ミクロンDRAM用MIM/Ta_2O_5キャパシタプロセスの開発
• Cu配線を用いた超高速SRAM向け0.2μm BiCMOSプロセス技術
• Cu配線を用いた超高速SRAM向け0.2μm BiCMOSプロセス技術
• Cu配線を用いた超高速SRAM向け0.2μm BiCMOSプロセス技術
• DCCPW線路を用いた光・マイクロ波受信モジュール

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