浅野 勇 | エルピーダメモリ(株)

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概要

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関連著者

• 浅野 勇

  エルピーダメモリ(株)

• 平谷 正彦

  Hitachi Europe Ltd. Whitebrook Park

• 浅野 勇

  エルピーダメモリ株式会社

• 平谷 正彦

  (株)日立製作所 中央研究所

• 中村 吉孝

  エルピーダメモリ株式会社

• 飯島 晋平

  エルピーダメモリ株式会社

• 生田目 俊秀

  (株)半導体先端テクノロジーズ(selete):(現)(独)物質・材料研究機構

• 松井 裕一

  (株)日立製作所 中央研究所

• 中村 吉孝

  エルピーダメモリ(株)

• 斎藤 達之

  (株)日立製作所デバイス開発センタプロセス開発部

• 齋藤 達之

  (株)日立製作所

• 生田目 俊秀

  (株)日立製作所日立研究所

• 松井 裕一

  (株)日立製作所中央研究所

• 齋藤 達之

  (株)日立製作所マイクロデバイス事業部

• 佐伯 智則

  (株)日立製作所生産技術研究所

• 二瀬 卓也

  (株)日立超LSIシステムズ

• 山本 智志

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 関口 敏宏

  エルピーダメモリ株式会社

• 飯島 晋平

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 木村 紳一郎

  日立製作所中央研究所

• 大路 譲

  (株)日立製作所

• 大路 譲

  (株)日立製作所半導体事業部半導体技術開発センタ

• 関口 敏芳

  エルピーダメモリ株式会社

• 生田目 俊英

  (株)日立製作所

• 二瀬 卓也

  株式会社日立超LSIシステムズ

• 浅野 勇

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 中西 成彦

  (株)日立製作所半導体事業部半導体技術開発センタ

• 斎藤 達之

  (株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部

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著作論文

• 0.10μm DRAM用MIM/Ta_2O_5キャパシタプロセスの開発
• MIMキャパシタ用電極の形成技術
• 0.10ミクロンDRAM用MIM/Ta_2O_5キャパシタプロセスの開発
• ギガビットDRAMに向けたキャパシタ技術 (超LSI製造・試験装置ガイドブック 2002年版) -- (総論)
• Nb_2O_5添加及び積層による高誘電率Ta_2O_5膜の低温結晶化(ゲート絶縁膜, 容量膜, 機能膜及びメモリ技術)
• DRAMキャパシターへの高誘電体薄膜の応用-課題と方向
• ギガビットDRAMに向けた新材料MIMキャパシタ (特集 半導体プロセス技術のイノベーション)

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