生田目 俊秀 | (株)日立製作所日立研究所
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
生田目 俊秀
(株)日立製作所日立研究所
-
平谷 正彦
(株)日立製作所 中央研究所
-
平谷 正彦
Hitachi Europe Ltd. Whitebrook Park
-
生田目 俊秀
(株)半導体先端テクノロジーズ(selete):(現)(独)物質・材料研究機構
-
斎藤 達之
(株)日立製作所デバイス開発センタプロセス開発部
-
齋藤 達之
(株)日立製作所
-
齋藤 達之
(株)日立製作所マイクロデバイス事業部
-
中村 吉孝
エルピーダメモリ株式会社
-
浅野 勇
エルピーダメモリ株式会社
-
飯島 晋平
エルピーダメモリ株式会社
-
佐伯 智則
(株)日立製作所生産技術研究所
-
二瀬 卓也
(株)日立超LSIシステムズ
-
山本 智志
(株)日立製作所デバイス開発センタ
-
関口 敏宏
エルピーダメモリ株式会社
-
浅野 勇
エルピーダメモリ(株)
-
中村 吉孝
エルピーダメモリ(株)
-
嶋本 泰洋
(株)日立製作所中央研究所
-
鈴木 孝明
日立
-
生田目 俊秀
日立
-
鈴木 孝明
(株)日立製作所日立研究所
-
岡本 達司
(株)日立製作所日立エンタープライズサーバ事業部
-
綿引 誠次
(株)日立製作所日立研究所
-
荻原 衛
(株)日立製作所日立エンタープライズサーバ事業部
-
田中 稔
(株)日立製作所日立エンタープライズサーバ事業部
-
松山 治彦
(株)日立製作所日立エンタープライズサーバ事業部
-
松井 裕一
(株)日立製作所中央研究所
-
関口 敏芳
エルピーダメモリ株式会社
-
二瀬 卓也
株式会社日立超LSIシステムズ
-
松井 裕一
(株)日立製作所 中央研究所
-
斎藤 達之
(株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部
著作論文
- Pb(Mg_Nb_)O_3薄膜コンデンサの作製と電気特性
- Ru(C_5H_4C_2H_5)_2/THF原料を用いたCVD法によるRu電極の形成
- 0.10μm DRAM用MIM/Ta_2O_5キャパシタプロセスの開発
- 0.10ミクロンDRAM用MIM/Ta_2O_5キャパシタプロセスの開発