青木 英雄 | (株)日立製作所デバイス開発センタプロセス開発部
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概要
関連著者
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日野出 憲治
日立製作所 中央研究所
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日野出 憲治
株式会社日立製作所中央研究所
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大島 隆文
日立・マイクロデバイス
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青木 英雄
(株)日立製作所デバイス開発センタプロセス開発部
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日野出 憲司
日立製作所. 中央研究所
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大島 隆文
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日立超LSIシステムズ(株)
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古澤 健志
ルネサステクノロジー
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丸山 裕之
(株)日立製作所デバイス開発センタ
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(株)日立製作所デバイス開発センタ
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(株)日立製作所デバイス開発センタ
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(株)日立製作所中央研究所
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宇野 正一
(株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部
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(株)日立製作所デバイス開発センタプロセス開発部
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(株)日立製作所デバイス開発センタプロセス開発部
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石川 憲輔
(株)日立製作所デバイス開発センタプロセス開発部
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福田 琢也
日立製作所. デバイス開発センタ
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大島 隆文
日立製作所. デバイス開発センタ
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青木 英雄
日立製作所. デバイス開発センタ
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丸山 裕之
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日立製作所. デバイス開発センタ
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小西 信博
日立製作所. デバイス開発センタ
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深田 晋一
日立製作所. デバイス開発センタ
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湯之上 隆
日立製作所. デバイス開発センタ
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堀田 尚二
日立製作所. デバイス開発センタ
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野尻 一男
日立製作所. デバイス開発センタ
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徳永 尚文
日立製作所. デバイス開発センタ
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齋藤 達之
(株)日立製作所
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石川 憲輔
(株)日立製作所マイクロデバイス事業部
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齋藤 達之
(株)日立製作所マイクロデバイス事業部
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深田 晋一
(株)日立製作所 デバイス開発センタ
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小西 信博
(株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部
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徳永 尚文
日立 デバイス開セ
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宮崎 博史
(株)日立製作所 半導体グループ
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斎藤 達之
(株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部
著作論文
- Cu配線のストレスマイグレーションによるVia劣化とその対策
- ED2000-135 / SDM2000-117 / ICD-2000-71 低誘電率層間材料を用いたCuデュアルダマシン配線技術
- ED2000-135 / SDM2000-117 / ICD2000-71 低誘電率層間材料を用いたCuデュアルダマシン配線技術
- 有機SOG(k=2.9)を用いた0.18μm CMOS用の0.5μmピッチCuデュアルダマシン配線
- ED2000-135 / SDM2000-117 / ICD2000-71 低誘電率層間材料を用いたCuデュアルダマシン配線技術