福田 琢也 | (株)日立製作所デバイス開発センタ

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概要

• 同名の論文著者
• (株)日立製作所デバイス開発センタの論文著者

関連著者

• 日野出 憲治

  日立製作所 中央研究所

• 日野出 憲治

  株式会社日立製作所中央研究所

• 大島 隆文

  日立・マイクロデバイス

• 古澤 健志

  ルネサステクノロジー

• 日野出 憲治

  (株)日立製作所中央研究所ULSI研究部

• 大島 隆文

  (株)日立製作所デバイス開発センタプロセス開発部

• 青木 英雄

  (株)日立製作所デバイス開発センタプロセス開発部

• 丸山 裕之

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 前川 厚志

  日立超LSIシステムズ(株)

• 宇野 正一

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 福田 琢也

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 小林 伸好

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 古澤 健志

  (株)日立製作所中央研究所

• 日野出 憲司

  日立製作所. 中央研究所

• 小林 伸好

  日立製作所. デバイス開発センタ

• 大島 隆文

  (株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部

• 福田 琢也

  技術研究組合超先端電子技術開発機構(ASET)

• 丸山 裕之

  株式会社日立製作所デバイス開発センタ半導体技術開発本部プロセス開発部

• 宇野 正一

  (株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部

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著作論文

• ED2000-135 / SDM2000-117 / ICD-2000-71 低誘電率層間材料を用いたCuデュアルダマシン配線技術
• ED2000-135 / SDM2000-117 / ICD2000-71 低誘電率層間材料を用いたCuデュアルダマシン配線技術
• ED2000-135 / SDM2000-117 / ICD2000-71 低誘電率層間材料を用いたCuデュアルダマシン配線技術

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