大和田 伸郎 | (株)日立製作所

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概要

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• (株)日立製作所の論文著者

関連著者

• 大和田 伸郎

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 大和田 伸郎

  (株)日立製作所

• 平澤 茂樹

  (株)日立製作所 機械研究所

• 根津 広樹

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 平澤 茂樹

  (株)日立製作所

• 平澤 茂樹

  神戸大 大学院工学研究科

• 根津 広樹

  (株)日立製作所

• 中里 典生

  株式会社日立製作所 機械研究所

• 山口 日出

  (株)日立製作所デバイス開発センタプロセス開発部

• 中里 典生

  (株)日立製作所 機械研究所

• 大橋 直史

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 吉原 和弘

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 永井 謙治

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 大橋 直史

  株式会社日立製作所デバイス開発センタ半導体技術開発本部プロセス開発部

• 才川 健志

  (株)日立製作所

• 田丸 剛

  (株)日立製作所

• 鳥居 克裕

  (株)日立製作所

• 根津 広樹

  日立デバイス開発センタ

• 永井 謙治

  (株)日立製作所

• 大橋 直史

  株式会社日立製作所デバイス開発センタ

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著作論文

• LSIチップ内のSOI構造トランジスタ素子の熱解析
• 多層配線構造に対するSOGプロセスの改良
• 超LSIの不良解析(超LSIの良品率の秘密を探る)
• 高密度プラズマCVDを用いた埋め込み, 平坦化プロセス

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