高密度プラズマCVDを用いた埋め込み, 平坦化プロセス

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概要

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• 1995-11-30

著者

• 根津 広樹

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 大和田 伸郎

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 大和田 伸郎

  (株)日立製作所

• 才川 健志

  (株)日立製作所

• 田丸 剛

  (株)日立製作所

• 鳥居 克裕

  (株)日立製作所

• 根津 広樹

  (株)日立製作所

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