超LSIの不良解析(<特集>超LSIの良品率の秘密を探る)

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 公益社団法人精密工学会の論文
• 1992-02-05

著者

• 大和田 伸郎

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 大和田 伸郎

  (株)日立製作所

関連論文

• LSIチップ内のSOI構造トランジスタ素子の熱解析
• 多層配線構造に対するSOGプロセスの改良
• 超LSIの不良解析(超LSIの良品率の秘密を探る)
• 高密度プラズマCVDを用いた埋め込み, 平坦化プロセス

スポンサーリンク