龍崎 大介 | 日立製作所中央研究所
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概要
関連著者
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龍崎 大介
日立製作所中央研究所
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武田 健一
日立製作所 中央研究所
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武田 健一
日立製作所中央研究所
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Takeda Ken-ichi
Central Research Laboratory Hitachi Ltd.
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Takeda Ken'ichi
Central Research Laboratory Hitachi Ltd.
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Takeda Ken-ichi
Central Research Laboratory, Hitachi Ltd., Kokubunji-shi, Tokyo 185-8601, Japan
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Takeda Ken-ichi
Hitachi, Ltd., Central Research Laboratory, 1-280 Higashikoigakubo Kokubunji-shi, Tokyo 185-8601, Japan
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Takeda Ken-ichi
Hitachi, Ltd., Central Research Laboratory, Kokubunji, Tokyo 185-8601, Japan
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Takeda Ken-ichi
Central Research Laboratory, Hitachi Ltd., Higashikoigakubo, Kokubunji, Tokyo 185-8601, Japan
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古澤 健志
ルネサステクノロジー
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古澤 健志
日立製作所中央研究所
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後藤 康
(株)日立製作所中央研究所
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日野出 憲治
日立製作所 中央研究所
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日野出 憲治
株式会社日立製作所中央研究所
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山口 日出
(株)日立製作所デバイス開発センタプロセス開発部
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近藤 誠一
日立製作所中央研究所
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佐久間 憲之
日立製作所中央研究所
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町田 俊太郎
日立製作所中央研究所
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後藤 康
日立製作所中央研究所
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山口 日出
日立製作所デバイス開発センタ
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本間 喜夫
日立製作所中央研究所
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日野出 憲司
日立製作所. 中央研究所
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後藤 康
(株)日立製作所 中央研究所
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後藤 康
日立製作所
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町田 俊太郎
(株)日立製作所 中央研究所
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本間 喜夫
(株)日立製作所 中央研究所
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石田 猛
日立製作所 中央研究所
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福田 宏
株式会社日立製作所中央研究所
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桜井 治彰
日立化成工業電子材料事業本部
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阿部 浩一
日立化成工業電子材料事業本部
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福田 宏
日立製作所中央研究所
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山口 敦子
日立製作所中央研究所
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河江 達也
九州大工
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川田 洋揮
日立ハイテクノロジーズ那珂事業所
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Takeda Kazuyuki
Department Of Chemistry Graduate School Of Science Kyoto University:(present Address)division Of Adv
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山口 敦子
日立製作所 中央研究所
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桜井 治彰
日立化成工業(株)研究開発本部先端材料研究所
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阿部 浩一
日立化成工業(株)研究開発本部先端材料研究所
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石田 猛
日立製作所・中央研究所
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河江 連也
九大工
著作論文
- ポーラスlow-k膜のk値上昇(TDDI)メカニズムと信頼性向上技術
- 低寄生容量銅多層配線のための新しいプロセス技術 : 砥粒フリー銅CMP(ACP)及び新低誘電率材料:メチルシリコンオキシカーバイド(MTES)
- ED2000-47 / SDM2000-47 低寄生容量銅多層配線のための新しいプロセス技術 : 砥粒フリー鋼CMP(ACP)及び新低誘電率材料:メチルシリコンオキシカーバイド(MTES)
- 電界ストレスによるlow-k膜の比誘電率上昇(TDDI)
- Cu/low-k配線パターンのラインエッジラフネス評価(配線・実装技術と関連材料技術)