阿部 浩一 | 日立化成工業(株)研究開発本部先端材料研究所

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関連著者

• 桜井 治彰

  日立化成工業電子材料事業本部

• 阿部 浩一

  日立化成工業電子材料事業本部

• 桜井 治彰

  日立化成工業(株)研究開発本部先端材料研究所

• 阿部 浩一

  日立化成工業(株)研究開発本部先端材料研究所

• 武田 健一

  日立製作所 中央研究所

• 龍崎 大介

  日立製作所中央研究所

• 福田 宏

  株式会社日立製作所中央研究所

• 福田 宏

  日立製作所中央研究所

• 武田 健一

  日立製作所中央研究所

• Takeda Ken-ichi

  Central Research Laboratory Hitachi Ltd.

• Takeda Ken'ichi

  Central Research Laboratory Hitachi Ltd.

• Takeda Ken-ichi

  Central Research Laboratory, Hitachi Ltd., Kokubunji-shi, Tokyo 185-8601, Japan

• Takeda Ken-ichi

  Hitachi, Ltd., Central Research Laboratory, 1-280 Higashikoigakubo Kokubunji-shi, Tokyo 185-8601, Japan

• Takeda Ken-ichi

  Hitachi, Ltd., Central Research Laboratory, Kokubunji, Tokyo 185-8601, Japan

• Takeda Ken-ichi

  Central Research Laboratory, Hitachi Ltd., Higashikoigakubo, Kokubunji, Tokyo 185-8601, Japan

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著作論文

• ポーラスlow-k膜のk値上昇(TDDI)メカニズムと信頼性向上技術
• 低誘電率層間絶縁膜材料の最新動向
• 半導体用低誘電率層間絶縁膜材料 : 高強度シリカ系絶縁膜材料の開発

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