半導体用低誘電率層間絶縁膜材料 : 高強度シリカ系絶縁膜材料の開発

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概要

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• 日本化学会の論文
• 2004-07-01

著者

• 桜井 治彰

  日立化成工業電子材料事業本部

• 阿部 浩一

  日立化成工業電子材料事業本部

• 桜井 治彰

  日立化成工業(株)研究開発本部先端材料研究所

• 阿部 浩一

  日立化成工業(株)研究開発本部先端材料研究所

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