論文relation
低誘電率層間絶縁膜材料の最新動向
スポンサーリンク
概要
論文の詳細を見る
高分子学会の論文
2006-02-01
著者
桜井 治彰
日立化成工業電子材料事業本部
阿部 浩一
日立化成工業電子材料事業本部
桜井 治彰
日立化成工業(株)研究開発本部先端材料研究所
阿部 浩一
日立化成工業(株)研究開発本部先端材料研究所
関連論文
ポーラスlow-k膜のk値上昇(TDDI)メカニズムと信頼性向上技術
低誘電率層間絶縁膜材料の最新動向
半導体用低誘電率層間絶縁膜材料 : 高強度シリカ系絶縁膜材料の開発
スポンサーリンク
論文relation | CiNii API
論文
論文著者
博士論文
研究課題
研究者
図書
論文
著者
お問い合わせ
プライバシー