朴澤 一幸 | (株)日立製作所中央研究所ULSI研究部

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関連著者

• 朴澤 一幸

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• 由上 二郎

  (株)日立製作所 中央研究所

• 由上 二郎

  (株)半導体先端テクノロジーズ(selete)

• 由上 二郎

  ルネサス テクノロジ

• 長田 健一

  (株)日立製作所中央研究所

• 小柳 光正

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 福島 誉史

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 李 康旭

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• Kobayashi M

  Department Of Bioengineering And Robotics Tohoku University

• 河江 達也

  九州大工

• 花岡 裕子

  (株)日立製作所

• 古田 太

  (株)日立製作所基礎研究所

• Takeda Kazuyuki

  Department Of Chemistry Graduate School Of Science Kyoto University:(present Address)division Of Adv

• Takeda Ken-ichi

  Hitachi, Ltd., Central Research Laboratory, Kokubunji, Tokyo 185-8601, Japan

• 長田 健一

  (株)日立製作所 中央研究所

• 武田 健一

  (株)日立製作所中央研究所

• 青木 真由

  (株)日立製作所中央研究所

• 花岡 裕子

  (株)日立製作所中央研究所

• 古田 太

  (株)日立製作所中央研究所

• 河江 連也

  九大工

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著作論文

• 配線工程におけるウエハ裏面Cu汚染のデバイス信頼性に与える影響
• 半導体製造プロセスにおけるCu汚染によるデバイス信頼性劣化とそのメカニズム
• 3次元システムLSI開発のためのチップレベルTSVプロセス(次世代電子機器を支える三次元積層技術と先端実装の設計・評価技術論文)

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