永久 克巳 | (株)ルネサステクノロジ
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概要
関連著者
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永久 克巳
(株)ルネサステクノロジ
-
永久 克己
株式会社ルネサステクノロジ
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石川 清志
ルネサステクノロジ
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井上 靖朗
(株)ルネサステクノロジ先端デバイス開発部
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谷沢 元昭
(株)ルネサステクノロジ
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井上 靖朗
(株)ルネサステクノロジ
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谷沢 元昭
ルネサステクノロジ株式会社
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石川 清志
株式会社ルネサステクノロジ
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岡垣 健
(株)ルネサステクノロジ
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永久 克己
(株)ルネサステクノロジ
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石川 清志
(株)ルネサステクノロジ
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土屋 修
株式会社ルネサステクノロジ
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林 岳
(株)ルネサステクノロジ ウェハプロセス技術統括部
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林 岳
(株)ルネサステクノロジ
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内田 哲也
(株)ルネサステクノロジ
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土屋 修
(株)ルネサステクノロジ
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石川 清志
三菱電機(株)ULSI開発研究所
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園田 賢一郎
三菱電機(株)ULSI開発研究所
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園田 賢一郎
株式会社ルネサステクノロジ
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園田 賢一郎
三菱電機(株)
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高篠 裕行
(株)ルネサステクノロジ
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佃 栄次
(株)ルネサステクノロジ
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若原 祥史
(株)ルネサステクノロジ
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石川 清志
三菱電機(株)ulsi技術開発センター
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犬石 昌秀
三菱電機(株)
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井上 靖朗
三菱電機(株)
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谷沢 元昭
三菱電機(株)ULSI開発研究所
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犬石 昌秀
株式会社ルネサステクノロジ 先端デバイス開発部
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犬石 昌秀
株式会社ルネサステクノロジ
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尾田 秀一
(株)ルネサステクノロジ先端デバイス開発部
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永久 克巳
三菱電機(株)ULSI技術開発センター
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鎌倉 良成
大阪大学工学部
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谷口 研二
大阪大学工学部
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土屋 修
ルネサステクノロジ
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永久 克己
三菱電機(株)ULSI開発研究所
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熊本 敏夫
株式会社ルネサステクノロジ
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山下 朋弘
株式会社ルネサステクノロジウエハプロセス技術統括部
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西田 征男
株式会社ルネサステクノロジウエハプロセス技術統括部
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尾田 秀一
株式会社ルネサステクノロジウエハプロセス技術統括部
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熊本 敏夫
ルネサステクノロジ
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塚本 康正
(株)ルネサステクノロジ製品技術本部設計技術統括部
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大林 茂樹
(株)ルネサステクノロジ製品技術本部設計技術統括部
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牧野 博之
(株)ルネサステクノロジ製品技術本部設計技術統括部
-
佃 栄次
ルネサステクノロジ株式会社
-
高篠 裕行
ルネサステクノロジ株式会社
-
岡垣 健
ルネサステクノロジ株式会社
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内田 哲也
ルネサステクノロジ株式会社
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林 岳
ルネサステクノロジ株式会社
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永久 克己
ルネサステクノロジ株式会社
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若原 祥史
ルネサステクノロジ株式会社
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石川 清志
ルネサステクノロジ株式会社
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井上 靖朗
ルネサステクノロジ株式会社
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河野 浩之
三菱電機(株)システムlsi事業統括部
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西出 征男
三菱電機株式会社 ULSI技術開発センター
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鎌倉 良成
大阪大学大学院工学研究科
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井上 靖朗
株式会社ルネサステクノロジ
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熊本 敏夫
三菱電機(株)システムLSI開発研究所
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西田 征男
(株)ルネサス テクノロジ、生産本部、ウエハプロセス技術統括部
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大林 茂樹
株式会社ルネサステクノロジ
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牧野 博之
ルネサステクノロジ
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石橋 孝一郎
(株)ルネサステクノロジ 製品技術本部設計基盤技術開発部
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牧野 博之
大阪工業大学情報科学部コンピュータ科学科
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長田 健一
(株)日立製作所中央研究所
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岩出 秀平
大阪工業大学情報科学部
-
岩出 秀平
大阪工業大学情報科学部コンピュータ科学科
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岩出 秀平
大阪工業大学
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石橋 孝一郎
(株)ルネサステクノロジ
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熊本 敏夫
三菱電機(株)システムlsi事業統括部
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宮崎 裕行
(株)日立製作所 中央研究所
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山岡 雅直
(株)日立製作所 中央研究所
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塚本 康正
ルネサスエレクトロニクス株式会社
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谷口 研二
大阪大
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清水 昭博
株式会社ルネサステクノロジ
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芝原 健太郎
広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所:広島大学大学院先端物質科学研究科
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Taniguchi K
Osaka Univ. Osaka Jpn
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Taniguchi K
Department Of Electronic Engineering Faculty Of Engineering Osaka University
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國清 辰也
(株)ルネサステクノロジ
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渡邊 哲也
(株)ルネサステクノロジ
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金本 俊幾
(株)ルネサステクノロジ
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朝里 浩靖
(株)ルネサスデバイスデザイン
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白田 光利
(株)ルネサステクノロジ
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味岡 佳英
(株)ルネサステクノロジ
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山岡 雅直
日立製作所中央研究所
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山岡 雅直
(株)日立製作所中央研究所
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渡邉 哲也
株式会社ルネサステクノロジ製品技術本部
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金本 後幾
株式会社ルネサステクノロジ製品技術本部
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国清 辰也
株式会社ルネサステクノロジ生産本部
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白田 光利
株式会社ルネサステクノロジ製品技術本部
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味岡 佳英
株式会社ルネサステクノロジ製品技術本部
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西田 征男
株式会社ルネサステクノロジ:広島大学大学院先端物質科学研究科
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Taniguchi K
Department Of Electronics And Information Systems Osaka University
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尾田 秀一
株式会社ルネサステクノロジ
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牧野 博之
大阪工業大学大学院情報科学研究科
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谷口 研二
大阪大学大学院工学研究科
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中川 直紀
(株)アドバンスト・ディスプレイ
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山本 和也
三菱電機株式会社
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西村 正
三菱電機株式会社ulsi技術開発センター
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前川 繁登
三菱電機(株)LSI研究所
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三好 寛和
三菱電機(株) Ulsi開発研究所
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平野 有一
三菱電機(株)
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前田 茂伸
三菱電機(株)
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松本 拓治
三菱電機(株)
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岩松 俊明
三菱電機(株)
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山口 泰男
三菱電機(株)
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一法師 隆志
三菱電機(株)
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西村 正
三菱電機(株)
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佐山 弘和
三菱電機(株)ULSI開発研究所
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山口 偉人
(株)アドバンスト・ディスプレイ
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前田 茂伸
三菱電機株式会社ULSI技術開発センター
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松本 拓治
三菱電機株式会社ULSI技術開発センター
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山口 泰男
三菱電機(株)ulsi技術開発センター
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山口 泰男
株式会社ルネサステクノロジ
-
山口 泰男
三菱電機(株)ulsi開発研究所
-
一法師 隆志
(株)ルネサステクノロジ先端デバイス開発部
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平野 有一
(株)ルネサステクノロジ
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岩松 俊明
(株)ルネサステクノロジ先端デバイス開発部
-
前川 繁登
(株)ルネサステクノロジ先端デバイス開発部
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山下 朋弘
(株)ルネサステクノロジ
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佐山 弘和
三菱電機ulsi技術開発センター
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太田 和伸
ソニー株式会社
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芝原 健太郎
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
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山岡 雅直
日立製作所・中央研究所
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太田 和伸
三菱電機(株)ULSI技術開発センター
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山本 和也
三菱電機システムLSI事業統括センター
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加藤 隆幸
三菱電機高周波光素子事業統括部
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尾田 秀一
三菱電機(株)ULSI技術開発センター
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谷口 研二
大阪大学大学院工学研究科高度人材育成センター:大阪大学大学院工学研究科電気電子情報工学専攻
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塚本 康正
株式会社ルネサステクノロジ
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山下 朋弘
ルネサステクノロジ
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石橋 孝一郎
(株)日立製作所中央研究所
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小谷 教彦
三菱電機(株)ULSI開発研究所
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加藤 隆幸
三菱電機株式会社高周波光デバイス製作所
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平野 有一
ルネサスエレクトロニクス株式会社
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岩松 俊明
ルネサスエレクトロニクス株式会社
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石橋 孝一郎
ルネサスエレクトロニクス
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小谷 教彦
広島国際大学社会環境科学部
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小谷 教彦
三菱電機(株)ulsi技術開発センター
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西村 正
三菱電機 Ulsi開セ
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芝原 健太郎
広島大学 ナノデバイス・システム研究センター
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Taniguchi K
Division Of Electrical Electronics And Information Engineering Graduate School Of Engineering Osaka
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加藤 隆幸
三菱電機
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長田 健一
株式会社日立製作所
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前田 茂伸
Ulsi開発センター
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Taniguchi Kenji
Division Of Electrical Electronic And Information Engineering Osaka University
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西村 正
三菱電機(株)ulsi開発研究所
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佐山 弘和
三菱電機(株)
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三好 寛和
三菱電機(株)
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前川 繁登
(株)ルネサステクノロジ
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長田 健一
(株)日立製作所 中央研究所
著作論文
- コンタクト特性を考慮したa-Si:H TFTの電気的特性の解析
- 65nmノード歪みpMOSFETのホール伝導における全応力の効果の検証(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
- デュアルオフセット構造を有する135GHzf_SOI MOSFETの高周波アナログ混載技術
- SOCを低電力化する回路技術とデバイスモデルの課題(IEDM(先端CMOSデバイス・プロセス技術))
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- デバイス/回路シミュレータの結合
- 65nmノード歪みpMOSFETのホール伝導における全応力の効果の検証(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
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- ばらつき因子の大域的な同定と統計的ワーストケースモデルの生成方法について(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
- ばらつき因子の大域的な同定と統計的ワーストケースモデルの生成方法について(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
- High-k/ メタルゲートMOSFETのしきい値電圧の温度依存性