佃 栄次 | ルネサステクノロジ株式会社
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概要
関連著者
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林 岳
(株)ルネサステクノロジ ウェハプロセス技術統括部
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林 岳
(株)ルネサステクノロジ
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内田 哲也
(株)ルネサステクノロジ
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鎌倉 良成
大阪大学工学部
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谷口 研二
大阪大学工学部
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土屋 修
ルネサステクノロジ
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井上 靖朗
(株)ルネサステクノロジ先端デバイス開発部
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井上 靖朗
(株)ルネサステクノロジ
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佃 栄次
ルネサステクノロジ株式会社
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高篠 裕行
ルネサステクノロジ株式会社
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岡垣 健
ルネサステクノロジ株式会社
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内田 哲也
ルネサステクノロジ株式会社
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林 岳
ルネサステクノロジ株式会社
-
谷沢 元昭
ルネサステクノロジ株式会社
-
永久 克己
ルネサステクノロジ株式会社
-
若原 祥史
ルネサステクノロジ株式会社
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石川 清志
ルネサステクノロジ株式会社
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井上 靖朗
ルネサステクノロジ株式会社
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鎌倉 良成
大阪大学大学院工学研究科
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石川 清志
株式会社ルネサステクノロジ
-
岡垣 健
(株)ルネサステクノロジ
-
谷沢 元昭
(株)ルネサステクノロジ
-
高篠 裕行
(株)ルネサステクノロジ
-
佃 栄次
(株)ルネサステクノロジ
-
永久 克巳
(株)ルネサステクノロジ
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若原 祥史
(株)ルネサステクノロジ
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土屋 修
株式会社ルネサステクノロジ
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谷口 研二
大阪大
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Taniguchi K
Osaka Univ. Osaka Jpn
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Taniguchi K
Department Of Electronic Engineering Faculty Of Engineering Osaka University
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永久 克己
株式会社ルネサステクノロジ
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石川 清志
ルネサステクノロジ
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Taniguchi K
Department Of Electronics And Information Systems Osaka University
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谷口 研二
大阪大学大学院工学研究科
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谷口 研二
大阪大学大学院工学研究科高度人材育成センター:大阪大学大学院工学研究科電気電子情報工学専攻
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Taniguchi K
Division Of Electrical Electronics And Information Engineering Graduate School Of Engineering Osaka
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Taniguchi Kenji
Division Of Electrical Electronic And Information Engineering Osaka University
著作論文
- 65nmノード歪みpMOSFETのホール伝導における全応力の効果の検証(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
- 65nmノード歪みpMOSFETのホール伝導における全応力の効果の検証(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)