石橋 孝一郎 | (株)ルネサステクノロジ

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概要

• 同名の論文著者
• (株)ルネサステクノロジの論文著者

関連著者

• 石橋 孝一郎

  (株)ルネサステクノロジ

• 石橋 孝一郎

  ルネサスエレクトロニクス

• 石橋 孝一郎

  (株)日立製作所中央研究所

• 石橋 孝一郎

  (株)半導体理工学研究センター設計技術開発部低電力技術開発室

• 大林 茂樹

  株式会社ルネサステクノロジ

• 塚本 康正

  ルネサスエレクトロニクス株式会社

• 塚本 康正

  株式会社ルネサステクノロジ

• 長田 健一

  (株)日立製作所中央研究所

• 山下 高廣

  (株)半導体理工学研究センター

• 新居 浩二

  株式会社ルネサステクノロジ

• 牧野 博之

  (株)ルネサステクノロジ製品技術本部設計技術統括部

• 石橋 孝一郎

  ルネサステクノロジ

• 今岡 進

  株式会社ルネサスデザイン

• 薮内 誠

  株式会社ルネサステクノロジ

• 篠原 尋史

  株式会社ルネサステクノロジ

• 牧野 博之

  ルネサステクノロジ

• 篠原 尋史

  ルネサスエレクトロニクス株式会社

• 薮内 誠

  ルネサスエレクトロニクス株式会社

• 新居 浩二

  ルネサステクノロジー

• 五十嵐 元繁

  株式会社ルネサステクノロジ

• 新居 浩二

  ルネサスエレクトロニクス株式会社

• 新居 浩二

  ルネサステクノロジ

• 藤本 徹哉

  (株)半導体理工学研究センター

• 山岡 雅直

  日立製作所中央研究所

• 福岡 一樹

  ルネサステクノロジ

• 五十嵐 康人

  ルネサステクノロジ

• 小澤 治

  ルネサステクノロジ

• 倉石 孝

  ルネサステクノロジ

• 安 義彦

  ルネサステクノロジ

• 石橋 孝一郎

  株式会社ルネサステクノロジ

• 石橋 孝一郎

  (株)ルネサステクノロジ 製品技術本部設計基盤技術開発部

• 塚田 敏郎

  (株)半導体理工学研究センター設計技術開発部低電力技術開発室

• 小松 義英

  (株)半導体理工学研究センター(STARC) 設計技術開発部 低電力技術開発室

• 塚田 敏郎

  (株)半導体理工学研究センター(starc)設計技術開発部低電力技術開発室

• 山本 雅晴

  (株)半導体理工学研究センター

• 山口 泰男

  三菱電機(株)ulsi技術開発センター

• 山口 泰男

  株式会社ルネサステクノロジ

• 犬石 昌秀

  株式会社ルネサステクノロジ 先端デバイス開発部

• 犬石 昌秀

  株式会社ルネサステクノロジ

• 川島 光

  株式会社ルネサステクノロジ

• 山岡 雅直

  日立製作所・中央研究所

• 竹内 雅彦

  株式会社ルネサステクノロジ

• 牧野 博之

  株式会社ルネサステクノロジ

• 塚本 和宏

  株式会社ルネサステクノロジ

• 永田 真

  神戸大学:株式会社a-r-tec

• 藤本 徹哉

  (株)半導体理工学研究センター設計技術開発部

• 山下 高廣

  (株)半導体理工学研究センター設計技術開発部

• 島崎 健二

  神戸大学 工学部 情報知能工学科

• 島崎 健二

  神戸大学工学部情報知能工学科

• 島崎 健二

  松下電器産業(株)

• 深澤 光弥

  株式会社ルネサステクノロジ

• 山岡 雅直

  (株)日立製作所中央研究所

• 山本 雅晴

  (株)半導体理工学研究センター(starc)設計技術開発部低電力技術開発室

• 有馬 幸生

  (株)半導体理工学研究センター(starc)設計技術開発部低電力技術開発室

• 小松 義英

  (株)半導体理工学研究センター(starc)設計技術開発部低電力技術開発室

• 長田 健一

  株式会社日立製作所

• 浅田 邦博

  東京大学大規模集積システム設計教育研究センター

• 池田 誠

  東京大学 大学院 工学系研究科

• 浅田 邦博

  東京大学 大学院 工学系研究科

• 永田 真

  神戸大学工学部情報知能工学科

• 名倉 徹

  東京大学大規模集積システム設計教育研究センター(VDEC)

• 岡田 博之

  (株)半導体理工学研究センター設計技術開発部低電力技術開発室

• 山口 泰男

  三菱電機(株)ulsi開発研究所

• 一法師 隆志

  ルネサステクノロジ 先端デバイス開発部

• 一法師 隆志

  ルネサステクノロジ

• 塚本 康正

  (株)ルネサステクノロジ製品技術本部設計技術統括部

• 大林 茂樹

  (株)ルネサステクノロジ製品技術本部設計技術統括部

• 石橋 孝一郎

  STARC

• 浅田 邦博

  東京大学大規模集積システム設計教育研究センター(vdec):東京大学大学院工学系研究科電気系工学専攻

• 牧 幸生

  ルネサステクノロジ 先端デバイス開発部

• 落合 俊彦

  ルネサステクノロジ プラットフォームPJセンター

• 白畑 正芳

  ルネサステクノロジ プラットフォームPJセンター

• 今岡 進

  ルネサスデザイン

• 増田 康浩

  ルネサスデザイン

• 薮内 誠

  ルネサステクノロジ

• 塚本 康正

  ルネサステクノロジ

• 大林 茂樹

  ルネサステクノロジ

• 五十嵐 元繁

  ルネサステクノロジ

• 冨田 和朗

  ルネサステクノロジ

• 坪井 信生

  ルネサステクノロジ

• 篠原 尋史

  ルネサステクノロジ

• 池田 誠

  (株)東芝電力・産業システム技術開発センター

• 深澤 光弥

  神戸大学工学部情報知能工学科

• 金 鎮明

  東京大学大学院工学系研究科

• 高田 英裕

  三菱電機

• 高田 英裕

  ルネサスエレクトロニクス株式会社技術開発本部

• 浅田 邦博

  東京大学大学院工学系研究科

• 池田 誠

  東京大学大学院工学系研究科

• 池田 誠

  東京大学大規模集積システム設計教育研究センター

• 高柳 万里子

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 野村 昌弘

  Necエレクトロニクス(株)lsi基礎開発研究所

• 野村 昌弘

  Necエレクトロニクスlsi基礎開発研究所

• 前川 繁登

  三菱電機株式会社LSI研究所

• 前川 繁登

  ルネサステクノロジ

• 前川 繁登

  ルネサス

• 高柳 万里子

  東芝セミコンダクター社 システムLSI開発センター

• 池田 修二

  日立製作所半導体事業部

• 池田 修二

  (株)日立製作所半導体グループ:(現)トレセンティテクノロジーズ

• 伊藤 寧夫

  Starc(半導体理工学研究センター):東芝マイクロエレクトロニクス

• 入江 直彦

  日立製作所中央研究所

• 浅田 邦博

  東京大学大学院工学系研究科電子工学専攻

• 森 涼

  ルネサステクノロジ

• 佐々木 敏夫

  ルネサステクノロジ

• 長田 健一

  株式会社日立製作所中央研究所

• 濱田 基嗣

  東芝セミコンダクター社

• 永久 克己

  (株)ルネサステクノロジ

• 谷沢 元昭

  (株)ルネサステクノロジ

• 宮崎 裕行

  (株)日立製作所 中央研究所

• 山岡 雅直

  (株)日立製作所 中央研究所

• 永久 克巳

  (株)ルネサステクノロジ

• 峯松 勲

  (株)半導体理工学研究センター:(現)シャープ株式会社

• 入江 直彦

  (株)日立製作所中央研究所

• 長田 健一

  日立製作所中央研究所

• 石橋 孝一郎

  日立製作所中央研究所

• 森 涼

  (株)ルネサステクノロジ

• 大塚 文雄

  SELETE

• 濱田 基嗣

  東芝 Soc研究開発セ

• 濱田 基嗣

  東芝セミコンダクター社soc研究開発センター

• 野村 昌弘

  Nec

• 市橋 基

  STARC(半導体理工学研究センター)

• 戸田 春希

  STARC(半導体理工学研究センター)

• 山岡 雅直

  株式会社 日立製作所 中央研究所

• 長田 健一

  株式会社 日立製作所 中央研究所

• 石橋 孝一郎

  株式会社 日立製作所 中央研究所

• 高柳 万里子

  東芝

• 入江 直彦

  日立製作所 中央研究所

• 戸田 春希

  Starc(半導体理工学研究センター):東芝セミコンダクター社

• 市橋 基

  Starc(半導体理工学研究センター):ルネサステクノロジ

• 山下 高廣

  株式会社半導体理工学研究センター設計技術開発部低電力技術開発室

• 藤本 徹哉

  株式会社半導体理工学研究センター設計技術開発部低電力技術開発室

• 石橋 孝一郎

  株式会社半導体理工学研究センター設計技術開発部低電力技術開発室

• 石田 浩

  セイコーエプソン株式会社ビジネスシステム事業部

• 杉林 直彦

  NECデバイスプラットフォーム研究所

• 牧 幸生

  三菱電機(株) メモリ事業統括部

• 平木 充

  株式会社ルネサステクノロジ設計基盤開発部

• 水野 弘之

  株式会社日立製作所中央研究所

• 杉林 直彦

  日本電気・デバイスプラットフォーム研究所

• 中瀬 泰伸

  三菱電機システムLSI開発研究所

• 川嶋 将一郎

  富士通研究所

• 黒田 謙一

  日立製作所半導体事業部

• 新居 浩二

  (株)ルネサステクノロジ製品技術本部設計技術統括部

• 薮内 誠

  (株)ルネサステクノロジ製品技術本部設計技術統括部

• 篠原 尋史

  (株)ルネサステクノロジ製品技術本部設計技術統括部

• 谷沢 元昭

  ルネサステクノロジ株式会社

• 久礼 得男

  日立製作所中央研究所

• 川嶋 将一郎

  富士通マイクロエレクトロニクス・システムマイクロ事業部

• 平木 充

  日立

• 石井 智之

  日立

• 宮野 信治

  東芝

• 石井 智之

  (株)日立製作所中央研究所

• 河原 尊之

  (株)日立製作所中央研究所

• 石田 浩

  日立超lsiエンジニアリング株式会社

• 今岡 進

  (株)ルネサスデザイン

• 小田 祐士

  (株)シキノハイテック

• 河原 尊之

  株式会社日立製作所中央研究所

• 斉藤 良和

  (株)ルネサステクノロジ

• 松崎 望

  (株)日立製作所中央研究所

• 庄司 健一

  日立製作所 中央研究所

• 安 義彦

  (株)ルネサステクノロジ

• 平木 充

  日立中央研究所

• 宮野 信治

  半導体理工学研究センター

• 杉林 直彦

  Nec Ulsiデバイス開発研究所

• 杉林 直彦

  Nec

• 石橋 孝一郎

  ルネサス テクノロジ

• 水野 弘之

  日立製作所中央研究所

• 松崎 望

  日立製作所中央研究所

• 新保 利信

  日立超LSIエンジニアリング

• 大木 長斗司

  日立超LSIエンジニアリング

• 小野内 雅文

  日立製作所中央研究所

• 中瀬 泰伸

  ルネサスエレクトロニクス株式会社

• 永田 真

  神戸大学 大学院自然科学研究科,工学部情報知能工学科

• 菅野 雄介

  日立製作所中央研究所

• 佐圓 真

  日立製作所中央研究所

• 小松 成亘

  日立製作所中央研究所

• 安 義彦

  ルネサスエレクトロニクス

• 小松 義英

  パナソニック(株)戦略半導体開発センター

• 橋本 安行

  (株)半導体理工学研究センター設計技術開発部低電力技術開発室

• 坂田 浩司

  (株)半導体理工学研究センター設計技術開発部低電力技術開発室

• 深澤 光弥

  神戸大学 工学部 情報知能工学科

• 宮野 信治

  (株)東芝セミコンダクター社

• 永久 克己

  株式会社ルネサステクノロジ

• 山岡 正直

  株式会社日立製作所中央研究所

• 中瀬 泰伸

  ルネサスエレクトロニクス

• 中瀬 泰伸

  (株)ルネサステクノロジ

• 石井 智之

  日立製作所中央研究所ulsi研究部

• 中瀬 泰伸

  三菱電機LSI研究所

• 萩原 正人

  (株)半導体理工学研究センター

• 有馬 幸生

  (株)半導体理工学研究センター設計技術開発部

• 石井 智之

  日立製作所中央研究所

• 石井 智之

  神奈川工科大学情報学部

• 菅野 雄介

  (株)日立製作所中央研究所

• 庄司 健一

  日立製作所半導体事業部

• 大木 長斗司

  日立超lsiエンジニアリング株式会社

• 斉藤 良和

  株式会社日立製作所半導体事業部

• 石橋 孝一郎

  株式会社日立製作所中央研究所

• 小野内 雅文

  (株)日立製作所中央研究所

• 菅野 雄介

  日立製作所 中央研究所

• 松崎 望

  (株)日立製作所 中央研究所

• 水野 弘之

  日立製作所 中央研究所

• 萩原 正人

  (株)半導体理工学研究センター:(現)ルネサステクノロジ

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著作論文

• 90-65nmテクノロジーに対応できるオンチップメモリは?
• 厚膜MOS電源スイッチを用いた高速電源遮断技術によるモバイルプロセッサの低電力化(電源制御,パワーゲーティング,VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低消費電力))
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• PTI-ABC SOIを用いた低消費電力SOC設計 : ボディバイアスコントロールによるばらつきを抑えた低消費電力回路設計
• PTI-ABC SOIを用いた低消費電力SOC設計 : ボディバイアスコントロールによるばらつきを抑えた低消費電力回路設計(ディジタル・情報家電,放送用,ゲーム機用システムLSI,回路技術(一般,超高速・低電力・高機能を目指した新アーキテクチャ))
• 65nm SoC向け混載SRAMでの動作マージン改善回路(VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低消費電力))
• 超高集積を実現した65nmテクノロジのSoC向けデュアルポートSRAMの開発(VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低消費電力))
• 65nm SoC向け混載SRAMでの動作マージン改善回路
• 超高集積を実現した65nmテクノロジのSoC向けデュアルポートSRAMの開発
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• SOCを低電力化する回路技術とデバイスモデルの課題(IEDM(先端CMOSデバイス・プロセス技術))
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• 0.65-2V動作のシステムLSI用キャッシュメモリ (メモリ・混載メモリ及びIC一般)
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• 0.65〜2.0V動作のシステムLSI用キャッシュメモリの開発 (特集1 低消費電力化進む半導体デバイス)
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