高柳 万里子 | 東芝セミコンダクター社 システムLSI開発センター

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概要

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• 東芝セミコンダクター社 システムLSI開発センターの論文著者

関連著者

• 高柳 万里子

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 高柳 万里子

  東芝セミコンダクター社 システムLSI開発センター

• 高柳 万里子

  東芝セミコンダクター社

• 濱田 基嗣

  東芝セミコンダクター社

• 濱田 基嗣

  東芝セミコンダクター社soc研究開発センター

• 野村 昌弘

  Necエレクトロニクス(株)lsi基礎開発研究所

• 野村 昌弘

  Necエレクトロニクスlsi基礎開発研究所

• 榎本 忠儀

  中央大学大学院理工学研究科情報工学専攻

• 榎本 忠儀

  中央大学理工学部

• 谷本 弘吉

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 前川 繁登

  三菱電機株式会社LSI研究所

• 前川 繁登

  ルネサステクノロジ

• 前川 繁登

  ルネサス

• 新居 浩二

  ルネサステクノロジー

• 藤原 実

  株式会社東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 大黒 達也

  東芝セミコンダクター社 システムLSI開発センター

• 永野 剛之

  東芝セミコンダクター社 システムLSI開発センター

• 藤原 実

  東芝セミコンダクター社 システムLSI開発センター

• 清水 敬

  東芝セミコンダクター社 システムLSI開発センター

• 百瀬 寿代

  東芝セミコンダクター社 システムLSI開発センター

• 中村 新一

  東芝セミコンダクター社 システムLSI開発センター

• 豊島 義明

  東芝セミコンダクター社 システムLSI開発センター

• 由上 二郎

  (株)日立製作所 中央研究所

• 山岡 雅直

  日立製作所・中央研究所

• 清水 敬

  プロセス技術推進センター

• 入江 直彦

  日立製作所中央研究所

• 高木 信一

  東京大学大学院 工学系研究科

• 高木 信一

  東京大学大学院工学系研究科

• 清水 敬

  東芝セミコンダクター社システムlsi開発センター

• 豊島 義明

  東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 由上 二郎

  (株)半導体先端テクノロジーズ(selete)

• 佐藤 成生

  富士通研究所

• 石橋 孝一郎

  (株)ルネサステクノロジ 製品技術本部設計基盤技術開発部

• 石橋 孝一郎

  (株)ルネサステクノロジ

• 西山 彰

  東京工業大学大学院総合理工学研究科

• 入江 直彦

  (株)日立製作所中央研究所

• 大黒 達也

  (株)東芝セミコンダクタ社SoC研究開発センター

• 百瀬 寿代

  (株)東芝セミコンダクタ社SoC研究開発センター

• 長谷 卓

  日本電気システムデバイス研究所

• 由上 二郎

  ルネサステクノロジ生産本部

• 西山 彰

  東芝研究開発センター

• 中村 新一

  (株)東芝

• 高木 信一

  半導体miraiプロジェクト 超先端電子技術開発機構(aset)

• 佐藤 成生

  富士通研究所先端cmos開発部

• 谷本 弘吉

  東芝 研究開発セ デバイスプロセス開発セ

• 松沢 一也

  東芝LSI基盤技術ラボラトリー

• 高木 信一

  東芝LSI基盤技術ラボラトリー

• 谷本 弘吉

  東芝セミコンダクター社

• 新居 浩二

  ルネサスエレクトロニクス株式会社

• 由上 二郎

  ルネサス テクノロジ

• 新居 浩二

  ルネサステクノロジ

• 大塚 文雄

  SELETE

• 榎本 忠儀

  中央大学理工学研究所

• 榎本 忠儀

  中央大学理工学部 情報工学科

• 西山 彰

  東芝 研究開発センター

• 永野 剛之

  東芝セミコンダクター社

• 濱田 基嗣

  東芝 Soc研究開発セ

• 大黒 達也

  東芝セミコンダクター社:広島大学

• 大黒 達也

  東芝セミコンダクター社

• 山岡 雅直

  日立製作所中央研究所

• 山岡 雅直

  (株)日立製作所中央研究所

• 野村 昌弘

  Nec

• 新井 浩二

  ルネサスエレクトロニクス株式会社

• 清水 敬

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 高柳 万里子

  東芝

• 入江 直彦

  日立製作所 中央研究所

• 榎本 忠儀

  中央大学 大学院 理工学研究科 情報工学専攻

• 百瀬 寿代

  (株)東芝研究開発センターulsi研究所

• 山岡 雅直

  日立製作所 中央研究所

• 石橋 孝一郎

  ルネサスエレクトロニクス

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著作論文

• 高濃度に窒化されたゲート絶縁膜を有するMOSFETのアナログ特性
• ゲートリークの救世主、それはHigh-k!(VLSI回路, デバイス技術(高速・低電圧・低消費電力))
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• 濃度勾配法による量子効果を導入したデバイス・シミュレーション
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• CMOS回路の低電圧化はどうすすめるべきか(VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低電力))
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