谷本 弘吉 | 東芝 研究開発セ デバイスプロセス開発セ

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概要

• 同名の論文著者
• 東芝 研究開発セ デバイスプロセス開発セの論文著者

関連著者

• 谷本 弘吉

  東芝 研究開発セ デバイスプロセス開発セ

• 谷本 弘吉

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 松沢 一也

  東芝LSI基盤技術ラボラトリー

• 谷本 弘吉

  東芝セミコンダクター社

• 谷本 弘吉

  (株)東芝セミコンダクター社soc研究開発センター

• 間 博顕

  (株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 松沢 一也

  (株)東芝先端半導体デバイス研究所

• 間 博顕

  (株)東芝 セミコンダクター社

• 高柳 万里子

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 高柳 万里子

  東芝セミコンダクター社 システムLSI開発センター

• 高木 信一

  東京大学大学院 工学系研究科

• 高木 信一

  東京大学大学院工学系研究科

• 青木 伸俊

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 青木 伸俊

  マイクロエレクトロニクス研

• 高木 信一

  半導体miraiプロジェクト 超先端電子技術開発機構(aset)

• 高木 信一

  東芝LSI基盤技術ラボラトリー

• 青木 伸俊

  東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 高柳 万里子

  東芝セミコンダクター社

• 青木 伸俊

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 初田 幸輔

  株式会社東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 浜本 毅司

  (株)東芝セミコンダクター社

• 篠 智彰

  (株)東芝マイクロエレクトロニクス研究所

• 初田 幸輔

  (株)東芝セミコンダクター社soc研究開発センター

• 中島 博臣

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 南 良博

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 坂本 篤史

  東芝情報システム(株)

• 東 知輝

  東芝マイクロエレクトロニクス(株)

• 楠 直樹

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 藤田 勝之

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 大澤 隆

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 森門 六月生

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 井納 和美

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 仁田山 晃寛

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 仁田山 晃寛

  (株)東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 仁田山 晃寛

  (株)東芝 セミコンダクター社

• 青木 伸俊

  株式会社東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 豊島 義明

  株式会社東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 伊藤 早苗

  (株)半導体先端テクノロジーズ第二研究部

• 青木 伸俊

  (株)東芝soc開発センター

• 豊島 義明

  東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 篠 智彰

  (株)東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 伊藤 早苗

  株式会社東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 下川 淳二

  株式会社東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 遠田 利之

  株式会社東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 谷本 弘吉

  株式会社東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 谷本 弘吉

  東芝

• 執行 直之

  東芝

• 小西 憲俊

  東芝

• 西之原 一美

  東芝

• 大澤 隆

  (株)東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 藤田 勝之

  Center For Semiconductor R&d Toshiba Corporation

• 楠 直樹

  (株)東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 中島 博臣

  (株)東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 大澤 隆

  (株)東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 南 良博

  (株)東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 篠 智彰

  (株)東芝セミコンダクター社soc研究開発センター

• 篠 智彰

  (株)東芝 研究開発センター 先端半導体デバイス研究所

• 豊島 義明

  株式会社東芝セミコンダクター&ストレージ社

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著作論文

• 90nmCMOSプロセスによる128Mb-FBC(Floating Body Cell)メモリの技術開発(先端CMOSデバイス・プロセス技術)
• SiON pMOSFETに対するNBTI劣化のモデリング(ゲート絶縁膜、容量膜、機能膜及びメモリ技術)
• 濃度勾配法による量子効果を導入したデバイス・シミュレーション
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• 任意形状のゲート電極におけるFNトンネル電流のシミュレーション
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