下川 淳二 | 株式会社東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

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概要

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• 株式会社東芝セミコンダクター社半導体研究開発センターの論文著者

関連著者

• 谷本 弘吉

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 青木 伸俊

  株式会社東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 豊島 義明

  株式会社東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 伊藤 早苗

  (株)半導体先端テクノロジーズ第二研究部

• 青木 伸俊

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 青木 伸俊

  マイクロエレクトロニクス研

• 豊島 義明

  東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 伊藤 早苗

  株式会社東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 下川 淳二

  株式会社東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 遠田 利之

  株式会社東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 谷本 弘吉

  株式会社東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 谷本 弘吉

  東芝 研究開発セ デバイスプロセス開発セ

• 青木 伸俊

  東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 豊島 義明

  株式会社東芝セミコンダクター&ストレージ社

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著作論文

• SiON pMOSFETに対するNBTI劣化のモデリング(ゲート絶縁膜、容量膜、機能膜及びメモリ技術)

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