反応性高速スパッタ法により作製したTiO_2薄膜の構造と光触媒特性(薄膜プロセス・材料,一般)
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概要
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メタルモードで動作するTi原子供給用スパッタ源と、酸化物モードで動作する酸素ラジカル供給用のスパッタ源を組み合わせた反応性スパッタ法を用いて数十nm/min以上の高い堆積速度での成膜を実現している,この方法で作製されるTiO_2薄膜の結晶構造は、基板へのTi原子と酸素分子供給量の比R_o/R_<Ti>に依存し、R_o/R_<Ti>を小さい値から増加させていくと、ルチルとアナターゼの混相膜からR_o/R_<Ti>の値が280以上でアナターゼ単相へと変化することが分かった。得られた膜は、紫外線照射により全て超親水性を示すものの、アナターゼ相の多く含まれる膜の方が良好な特性を示した。
- 2008-10-23
著者
-
清水 英彦
新潟大学工学部電気電子工学科
-
清水 英彦
新潟大 工
-
星 陽一
東京工芸大学工学部
-
石原 太樹
東京工芸大学工学部
-
境 哲也
東京工芸大学工学部
-
雷 浩
東京工芸大学工学部
-
境 哲也
東京工芸大学工学部システム情報学科
-
星 陽一
東京工芸大学工学部システム情報学科
-
清水 英彦
新潟大学工学部
-
清水 英彦
新潟大学
-
星 陽一
東京工芸大学工学部システム電子情報学科
-
星 陽一
東京工芸大学 工学部 システム情報学科
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