対向ターゲット式超高真空スパッタ装置を用いたAg薄膜初期成長過程の検討
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
超清浄雰囲気中でスパッタ膜を堆積することにより、従来の方法に比べて良好な結晶性を持つ薄膜が得られることが報告され注目されている。本研究では対向ターゲット式スパッタ源を備えた超清浄スパッタ装置を用いて、巨大磁気抵抗効果素子用非磁性層として有望なAg薄膜を作製しその初期成長過程の検討を行った。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1996-09-18
著者
-
川畑 州一
東京工芸大学工学部基礎・教養
-
深沢 知行
日本分光(株)
-
星 陽一
東京工芸大学工学部
-
川畑 州一
東京工芸大学
-
石原 一騎
東京工芸大学工学部
-
川畑 州一
東京工芸大
-
星 陽一
東京工芸大学 工学部 システム情報学科
-
川畑 州一
東京工芸大学工学部基礎教育研究センター教授
関連論文
- HtmlとJavaによる物理学電子テキストの作成
- 室温にてスパッタ法により作製したAZO薄膜の特性の検討 (電子部品・材料)
- SBD法を用いたAZO薄膜作製における特性の検討(薄膜プロセス・材料,一般)
- 反応性高速スパッタ法により作製したTiO_2薄膜の構造と光触媒特性(薄膜プロセス・材料,一般)
- 1P224放射光を利用した真空紫外円二色性分散計の開発と応用
- 3D1330 放射光を利用した真空紫外円二色性分散計の開発(7)
- 3PD062 放射光を利用した真空紫外円二色性分散計の開発(IV)
- 3PD061 放射光を利用した真空紫外円二色性分散計の開発(V)
- RFマグネトロンスパッタリング法によるTiO_2薄膜の生成と光触媒特性(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- スパッタ法による磁気記録媒体用Cr下地膜の微細構造制御法の検討
- 2光子励起を用いる導電性高分子のマイクロ光造形法
- 自動分光偏光解析装置の試作
- 回転検光子型偏光解析装置を用いた移相板の移相量の測定
- 対向ターゲットスパッタプラズマ中のAr IとTi Iのレーザ分光計測
- CoFeB/MgO/CoFeB磁気トンネル接合におけるアモルファスCoFeBの結晶化過程
- 偏光計測雑感
- Arイオン衝撃によるITO薄膜への効果の検討(薄膜プロセス・材料,一般)
- 白金担持TiO_2薄膜の生成と光触媒特性(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- 白金担持TiO2薄膜の生成と光触媒特性(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- 白金担持TiO_2薄膜の生成と光触媒特性(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- 小学校理科教材に対する工学技術者からの一提案(II) : スキルの向上
- 小学校理科教材に対する工学技術者からの一提案(I) : 物づくりに目を向けて欲しい
- 公開講演会の紹介および体験展示における磁気を使ったおもちゃ
- 2スパッタ源反応性スパッタ法によるTiO_2薄膜の高速堆積(薄膜プロセス・材料,一般)
- 基板バイアススパッタ法によるITO薄膜の検討(II)
- プラスチック基板上へのITO薄膜の作製(薄膜プロセス・材料,一般)
- スパッタ法によるAZO薄膜の作製(薄膜プロセス・材料,一般)
- プラズマアシスト電子ビーム蒸着法によるTiO_2薄膜の高速成膜
- スパッタビーム堆積法によるZnO薄膜の作製及び検討
- CS-6-2 スパッタ成膜中の基板温度上昇の抑制と低温での酸化促進法の検討(CS-6.薄膜の高機能発現をともなう低温成膜技術の最前線,シンポジウム)
- 有機EL素子用ITO薄膜の作製と検討(薄膜プロセス・材料, 一般)
- 低電圧スパッタ法によるYBCO薄膜の作製及び評価(薄膜プロセス・材料, 一般)
- パルススパッタ法を用いた薄膜作製プロセスの検討(薄膜プロセス・材料, 一般)
- イオンビームアシスト蒸着法によるTiO_2薄膜の高速成膜法の検討(電子部品・材料, 及び一般)
- C-6-9 ターゲット-基板間距離によるTiO_2薄膜の高速成膜法の検討(C-6. 電子部品・材料, エレクトロニクス2)
- C-6-8 ITOスパッタ膜堆積中のシールドリングからの輻射熱による入射熱量(C-6. 電子部品・材料, エレクトロニクス2)
- スパッタ法によるTiO_2薄膜の高速成膜法の検討(薄膜プロセス・材料,一般)
- ITOスパッタ膜堆積時の基板加熱の抑制
- 原子層積層法による六方晶バリウムフェライト薄膜の作製
- 原子層積層法による六方晶バリウムフェライト薄膜の作製
- 原子層積層法による六方晶バリウムフェライト薄膜の作製
- S層R層交互積層膜の熱処理によるBaフェライト薄膜の作製
- 原子層成長法によるC軸配向Baフェライト薄膜の作製
- 原子層成長法によるC軸配向Baフェライト薄膜の構造と磁気特性
- ITO透明導電膜の低温成膜における水蒸気の効果(電子材料)
- ITOスパッタ膜堆積中の基板入射熱量とその抑制法(薄膜プロセス・材料,一般)
- スパッタ法によるフィルム基板上への透明導電膜の作製(電子部品・材料, 及び一般)
- ITO透明導電膜の低温成膜における水蒸気の効果
- 対向ターゲット式スパッタ法によるITO透明導電膜の低温高速成膜
- スパッタ法を用いた有機EL素子用低温ITO薄膜の検討(薄膜プロセス・材料,一般)
- 放射光を利用した真空紫外円二色性分散計の開発(II)
- スパッタ法により作製したパーマロイ薄膜の機械的特性
- スパッタパーマロイ薄膜の付着力
- RFマグネトロンスパッタリング法によるTiO_2薄膜の生成と光触媒特性(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- RFマグネトロンスパッタリング法によるTiO_2薄膜の生成と光触媒特性(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- 室温にてスパッタ法により作製したAZO薄膜の特性の検討
- 垂直磁気記録用Baフェライト薄膜
- 鉄-コバルト多層膜の磁気特性
- 応用物性
- C-6-5 TiO_2薄膜の反応性スパッタにおける堆積速度減少の機構について(C-6.電子部品・材料)
- 低電圧スパッタ法によるFe薄膜の構造と磁気特性
- 偏光解析法を用いたAgスパッタ薄膜の初期成長過程の考察
- スパッタ法によるTiO_2薄膜堆積中の基板入射粒子の観察
- 低温成膜したITO薄膜の微細構造
- スパッタビーム堆積法によるITO薄膜の低温成膜
- その場観察偏光解析法によるAs_2S_3カルコゲナイドガラスにおけるフォトドーピング現象の研究
- 理科教育雑感
- 偏光解析法における膜厚測定および有効媒質近似理論
- 対向ターゲット式超高真空スパッタ装置を用いたAg薄膜初期成長過程の検討
- γ/4板の不完全性の要因について
- 6)原子層積層法による六方晶バリウムフェライト薄膜の作製(画像情報記録研究会)
- 酸素含有カーボンスパッタ薄膜の諸特性
- バリウムフェライト薄膜媒体の微粒子化
- バリウムフェライト薄膜媒体の微粒子化
- 六方晶バリウムフェライト薄膜用ZnO下地膜の構造制御
- 白金担持TiO_2薄膜の生成と光触媒特性
- 白金担持TiO_2薄膜の生成と光触媒特性
- 1A06 分光エリプソメトリによる液晶界面配向の時間分解解析
- 原子層積層法によるc軸配向Baフェライト超薄膜の作製
- 原子層積層法によるc軸配向Baフェライト超薄膜の作製
- 原子層積層法によるBaフェライト薄膜の作製 : 下地層による結晶性の制御
- 原子層積層法によるBaフェライト薄膜の作製 -下地層による結晶性の制御-
- 液体窒素温度でスパッタ堆積した窒素添加鉄薄膜
- スパッタ法によるITO薄膜の低温成膜法の検討
- CPM2000-78 低電圧スパッタ法により成膜したITO薄膜の熱処理効果
- (111)配向ZnFe_2O_4下地膜上に堆積したBaM薄膜の微細構造
- 各種希ガスを用いて作製したITOスパッタ薄膜の諸特性
- (111)配向ZnFe_2O_4下地膜上に堆積したBaM薄膜の微細構造
- 液体窒素温度でスパッタ堆積したCoおよびFe薄膜
- スパッタ法によるITO薄膜の低温成膜法の検討
- スパッタビーム堆積法による薄膜形成
- 低エネルギースパッタ法によるITO薄膜の作製
- 液体窒素温度製膜Niスパッタ薄膜の構造と磁気特性
- スパッタ法による磁性薄膜堆積過程のシミュレーション
- スパッタガス圧によるバリウムフェライト薄膜の組成変化の機構
- 対向ターゲット式スパッタ法により得られる薄膜の微細構造の計算機シミュレーション
- 対向ターゲット式スパッタ法によるDLC薄膜の作製
- TiO_2薄膜への安定した白金担持と光触媒特性(センサ,撮像,結晶成長,評価技術及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- TiO_2薄膜への安定した白金担持と光触媒特性(センサ,撮像,結晶成長,評価技術及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- TiO_2薄膜への安定した白金担持と光触媒特性(センサ,撮像,結晶成長,評価技術及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))