対向ターゲット式スパッタ法によるDLC薄膜の作製
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概要
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我々はスパッタ法を用いて、各種薄膜の作製を試みている。所望の構造や特性の膜を得るため、計算機シミュレーションにより堆積過程を検討するとともに、対向ターゲット式スパッタ装置やマグネトロンスバッタ装置を用いて、保護膜用ダイャモンドライクカーボン(DLC)薄膜や磁気記録媒体用薄膜対銀薄膜などの作製をこころみている。ここでは、スパッタ粒子の基板への入射角度分布や基板温度などによるDLC薄膜の構造や特性の変化を調べるとともに、スパッタ条件による薄膜の成長過程について計算機シミュレーションを用いて検討したので、以下にまとめて報告する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1996-09-18
著者
-
鈴木 英佐
東京工芸大学工学部
-
星 陽一
東京工芸大学工学部
-
鈴木 英佐
東京工芸大学工学部電子工学科
-
神戸 明宏
東京工芸大学 工学部
-
神戸 明宏
東京工芸大学大学院電子工学専攻
-
星 陽一
東京工芸大学 工学部 システム情報学科
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