スパッタビーム堆積法によるZnO薄膜の作製及び検討
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概要
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スパッタビーム堆積(SBD)法と名付けた独自の膜堆積法を,酸化物薄膜作製へ適用する方法を検討するために,ZnO薄膜を作製した。その結果,SBD法で作製した薄膜は,ZnO(002)面の回折ピークが観測され,その回折ピーク強度はマグネトロン(MS)法で作製した薄膜に比べ大きな値を示し,結晶性の良い薄膜を作製できることが分かった。また,基板を加熱することでSBD法による薄膜はc軸方向の結晶性が向上する結果となった。SBD法により作製された膜は,基板温度が室温及び300℃ともに,どのArガス圧においても膜表面粗さを示すRaの値が1nm以下と膜表面平坦性に優れ,可視光領域の透過率が80%以上であった。これらのことから,酸化物薄膜作製にも,結晶性及び膜方面平坦性を向上させる方法として,SBD法が有効であることが明らかとなった。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2006-07-31
著者
-
清水 英彦
新潟大学工学部電気電子工学科
-
岩野 春男
新潟大学工学部
-
丸山 武男
新潟大学工学部
-
野口 亨
新潟大学自然科学研究科
-
川上 貴浩
新潟大学工学部
-
清水 英彦
新潟大 工
-
星 陽一
東京工芸大学工学部
-
川上 歩
新潟大学自然科学研究科
-
東出 陽幸
新潟大学自然科学研究科
-
星 陽一
東京工芸大学工学部システム情報学科
-
清水 英彦
新潟大学工学部
-
丸山 武男
新潟大学
-
星 陽一
東京工芸大学 工学部 システム情報学科
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