スパッタ法により作製したMg-Ni薄膜の特性
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概要
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加熱基板上にMg膜とNi膜を交互に積層させる方法により,Mg-Ni薄膜の作製を試みた。その結果,どの積層数の膜においても基板温度150℃においてMg(002)面,Mg_2Ni(003)面の回折ピークが観測され,Mg結晶とMg_2Ni結晶の混晶膜となっていた。また,積層回数や基板温度を変化させることにより,容易にMgとNiが層状構造の膜と均一な構造の膜を得ることができることが分かった。基板温度100℃以下の場合,表面凹凸が顕著に変化しないのに対し,150℃以上にすると表面凹凸が大きくなる傾向があった。抵抗率は,基板温度が150℃までは緩やかに上昇し,200℃になると急激に上昇する傾向あった。すべての膜に,希薄な水素ガス及び酸素ガスを使用したため,クロミック特性は得られなかった。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2007-08-02
著者
-
清水 英彦
新潟大学工学部電気電子工学科
-
岩野 春男
新潟大学工学部
-
丸山 武男
新潟大学工学部
-
平田 真
新潟大学自然科学研究科
-
川上 貴浩
新潟大学工学部
-
清水 英彦
新潟大 工
-
愛甲 隆史
新潟大学自然科学研究科
-
長浜 大作
新潟大学自然科学研究科
-
清水 英彦
新潟大学工学部
-
清水 英彦
新潟大学
-
丸山 武男
新潟大学
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