低電圧スパッタ法によるYBCO薄膜の作製及び評価(薄膜プロセス・材料, 一般)
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概要
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本研究では, プラズマスパッタ法を用いて容易にYBCO薄膜の作製を実現できるようにするための基礎研究として, RF-DC結合型スパッタ法と従来のRFマグネトロンスパッタ法を用いて膜を作製し, 比較・検討を行った。その結果, RF-DC結合型スパッタ法と従来のRFマグネトロンスパッタ法のどちらも, スパッタ堆積した膜は, ターゲット組成と比べ, Baのような重い元素は少なく, Yのような軽い元素が多く含まれていた。また, 熱処理を行っても, YBCOの結晶化はできず, YBCO結晶とは異なる材料の結晶化しか行うことはできなかった。従って, RF-DC結合型スパッタ法による膜作製条件等をさらに検討する必要があることが分かった。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2005-11-05
著者
-
清水 英彦
新潟大学工学部電気電子工学科
-
岩野 春男
新潟大学工学部
-
丸山 武男
新潟大学工学部
-
川上 貴浩
新潟大学工学部
-
清水 英彦
新潟大 工
-
星 陽一
東京工芸大学工学部
-
岡田 好正
新潟大学自然科学研究科
-
森 貴志
新潟大学工学部
-
清水 英彦
新潟大学工学部
-
星 陽一
東京工芸大学 工学部 システム情報学科
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