スパッタ法を用いた有機EL素子用低温ITO薄膜の検討(薄膜プロセス・材料,一般)
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概要
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本研究では,低温成膜したITO薄膜のデバイス応用への有効性を検討するため,アンバランスドマグネトロンスパッタ法に基板バイアススパッタ法を組み合わせた方法によるITO膜の低温形成及び作製されたITO薄膜を有機EL素子へ適用し検討を行った。その結果,基板バイアス電圧を低くするにつれITO膜の結晶化は促進された。しかし,抵抗率には大きな変化が見られなかった。また,有機EL素子へ応用した場合,電圧-電流密度特性,電圧-輝度特性ともにとても悪く,有機EL素子用透明電極としては不十分であった。
- 2010-10-21
著者
-
清水 英彦
新潟大学工学部電気電子工学科
-
岩野 春男
新潟大学工学部
-
清水 英彦
新潟大 工
-
星 陽一
東京工芸大学工学部
-
福嶋 康夫
新潟大学大学院自然科学研究科
-
星 陽一
東京工芸大学工学部システム情報学科
-
中村 陽平
新潟大学大学院自然科学研究科
-
劉 暢
新潟大学大学院自然科学研究科
-
福嶋 康夫
新潟大学工学部
-
永田 向太郎
新潟大学工学部
-
清水 英彦
新潟大学工学部
-
清水 英彦
新潟大学
-
星 陽一
東京工芸大学工学部システム電子情報学科
-
永田 向太郎
新潟大学
-
星 陽一
東京工芸大学 工学部 システム情報学科
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