スパッタたい積後空気中熱処理によるSrAl_2O_4薄膜の特性(電子材料)
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
SrAl_2O_4蛍光体は,複数の希土類(Eu,Dyなど)を加えることにより,優れた残光性及び高輝度を示す材料である.そこで本研究では,SrAl_2O_4蛍光体薄膜の結晶性及び配向性の制御を行うための知見を得るために,スパッタたい積時の酸素分圧を変えて作製した膜を空気中で熱処理を行う方法を試みた.その結果,スパッタ膜たい積時の酸素分圧を0.1 Paとし,空気中1000℃で熱処理を行うことにより,膜のはく解を抑制することが可能であること.はく解が抑制される条件で作製した膜は,結晶性及び配向性も良好であり,(010)配向膜が得られること.酸素分圧を0.1 Paで作製した膜では,中心部において2価のEuに起因した緑色の発光が,端部では3価のEuに起因した赤色の発光が確認されたこと.酸素分圧が0.1 Pa以外の膜では,3価のEuに起因した赤色の発光のみが確認されることが明らかとなった.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2004-03-01
著者
-
清水 英彦
新潟大学工学部電気電子工学科
-
岩野 春男
新潟大学工学部
-
丸山 武男
新潟大学工学部
-
川上 貴浩
新潟大学工学部
-
太田 雅壽
新潟大学工学部
-
太田 雅壽
新潟大工
-
清水 英彦
新潟大 工
-
太田 雅壽
新潟大学工学部電気電子工学科
-
太田 雅壽
新潟大学工学部機能材料工学科
-
加藤 景三
新潟大学工学部
-
池田 倫秋
新潟大学工学部電気電子工学科
-
石井 岳志
新潟大学工学部電気電子工学科
-
関川 智洋
新潟大学工学部電気電子工学科
-
Kato K
Nippon Telegraph And Telephone Corp. Tokyo Jpn
-
Kato K
Shizuoka Johoku Senior High School Shizuoka Jpn
-
Kato Ken-ichi
Department Of Electrical Engineering Faculty Of Engineering Osaka City University
-
清水 英彦
新潟大学工学部
関連論文
- P-11 教育GP「つもり学習からの脱却」 : 電気・電子系の実施事例(ポスター発表,(08)工学教育に関するGood Practice)
- 平成20年度リフレッシュ理科教室 : (北陸・信越支部新潟会場)開催報告
- 企業における先端的な技術開発と「ものづくりの実際」を学習するプログラム「企業Week」
- 室温にてスパッタ法により作製したAZO薄膜の特性の検討 (電子部品・材料)
- SBD法を用いたAZO薄膜作製における特性の検討(薄膜プロセス・材料,一般)
- 交互積層法によるMg-Ni薄膜の作製
- 反応性高速スパッタ法により作製したTiO_2薄膜の構造と光触媒特性(薄膜プロセス・材料,一般)
- 企業との技術連携を通じた実践的教育プログラムの開発
- 企業における先端的な技術開発と「ものづくりの実際」を学習するプログラム「企業 Week」(第2報) : 新潟大学工学部における新たな取り組み
- 工学教育に関する一考察 : 文部科学省支援により導入された工学教育の現状と問題点
- 企業連携による実践的工学キャリア教育プログラムの開発とその社会連携に関する実施状況
- 半導体レーザの発振周波数安定化時における各部位での温度コントロールの周波数安定度への影響(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- 外部共振器を用いたVCSELの諸特性改善に関する考察(量子光学,非線形光学,超高速現象,レーザ基礎,及び一般)
- (110)高大接続の観点から見た専門高校卒業生の4年生大学工学部への受け入れ : 新潟大学における10年間の実践に関する報告(セッション32 高大連携I)
- 創造性豊かな技術者の育成を目指す工学教育プログラムの開発
- 新潟大学工学部における教育改革の効果
- 44 「授業実態・効果アンケート調査」に基づく授業改善の指針(ファカルティ・デベロップメント,第11セッション)
- 企業における先端的な技術開発と「ものづくりの実際」を学習するプログラム「企業 Week」
- 対向ターゲット式反応性スパッタ法によるCuAlO_2薄膜の作製と評価
- 企業連携による実践的工学キャリア教育プログラムの開発
- 411 企業における先端的な技術開発と「ものづくりの実際」を学習するプログラム「企業Week」(OS14-1 ものづくり技術教育,オーガナイズドセッション:14 技術と社会(高等教育改善))
- 光フィードバック法による半導体レーザの波長安定度の改善(半導体レーザ及び光パッシブコンポネント, 及び一般)
- 半導体レーザの基本波と内在的二次高調波の基礎実験 : 光フィードバック条件と発振周波数変動幅の関係(量子光学,非線形光学,超高速現象,レーザ基礎から応用,その他一般)
- C-4-22 半導体レーザの基本波と内在的二次高調波に関する基礎実験 : 光フィードバックによる発振波長変動の抑制
- 1.5μm帯半導体レーザの内在的二次高調波の増大に関する研究 : 光フィードバックの効果
- 1.5μm帯半導体レｰザの内在的二次高調波の増大に関する研究 : 光フィｰドバックの効果
- 半導体レーザの光フィードバック時における基本波と内在的二次高調波
- 半導体レｰザの光フィｰドバック時における基本波と内在的二次高調波
- 半導体レーザの2次高調波光の検出と光フィードバックの影響
- 9-101 企業連携による実践的工学キャリア教育と学外組織による教育支援の現状 : 100人力ネットワークの構築とその支援状況(口頭発表論文,(08)工学教育に関するGood Practice-I)
- 414 工学教育に関する一考察 : 文部科学省支援により導入された工学教育の現状と問題点(OS14-2 工学教育・大学院教育,オーガナイズドセッション:14 技術と社会(高等教育改善))
- 工学における実践的キャリア教育の実施 : マーケット・インターンシップとキャリアデザイン・ワークショップの成果と課題
- P-16 学生との0&Aに基づいて分り易く執筆した教科書 : 要点がわかるベクトル解析((7)教材の開発,ポスター発表論文)
- 2-325 工学教育に関する一考察 : 文部科学省GP事業による新しい工学教育導入(オーガナイズドセッション「イノベーションを支える工学教育」-I,口頭発表論文)
- 1-320 企業連携に基づく実践的工学キャリア教育の取組みとその成果 : マーケット・インターンシップとキャリアデザイン・ワークショップを中心に((8)工学教育に関するGood Practice-I,口頭発表論文)
- 1-319 企業連携による実践的工学キャリア教育プログラムの開発とその実施((8)工学教育に関するGood Practice-I,口頭発表論文)
- 平成19年度「リフレッシュ理科教室」開催報告 : 北陸信越支部 新潟会場
- 工学教育のあり方に関する一提言 : 人間教育を取り入れた教育を
- 新しい工学教育への挑戦 : 工学力を身につけた卒業生の輩出を目指して
- 外部共振器型半導体レーザの発振周波数安定化 : 雰囲気温度変動への対策(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- Rb吸収線の磁気光学効果を用いた半導体レーザの周波数安定化 : fsレーザ光コムを用いた安定度の評価と光フィードバックを用いた周波数安定化への検討(半導体レーザ及び光パッシブコンポネント, 及び一般)
- 実践的工学教育における学外技術者による支援状況
- 企業連携による実践的工学キャリア教育プログラムの開発の最終年度の取組成果
- 高等教育機関における技術者倫理教育のスパイラルアップに向けて : 平成21年電気学会全国大会シンポジウム報告
- PEAK方式による半導体レーザーの発振周波数安定化 : 実験環境の周波数安定度への影響の考察(量子光学,非線形光学,超高速現象,レーザ基礎,及び一般)
- 2-103 ものづくりにおける企業との技術連携を通じた実践的教育プログラムの開発((17)産学連携教育(産学間・大学高専間の連携)-I)
- Arイオン衝撃によるITO薄膜への効果の検討(薄膜プロセス・材料,一般)
- 超伝導マグネトロンスパッタ装置によるMo/Si多層膜の製作とその特性
- 2スパッタ源反応性スパッタ法によるTiO_2薄膜の高速堆積(薄膜プロセス・材料,一般)
- 基板バイアススパッタ法によるITO薄膜の検討(II)
- プラスチック基板上へのITO薄膜の作製(薄膜プロセス・材料,一般)
- スパッタ法によるAZO薄膜の作製(薄膜プロセス・材料,一般)
- プラズマアシスト電子ビーム蒸着法によるTiO_2薄膜の高速成膜
- スパッタビーム堆積法によるZnO薄膜の作製及び検討
- 有機EL素子用ITO薄膜の作製と検討(薄膜プロセス・材料, 一般)
- 低電圧スパッタ法によるYBCO薄膜の作製及び評価(薄膜プロセス・材料, 一般)
- パルススパッタ法を用いた薄膜作製プロセスの検討(薄膜プロセス・材料, 一般)
- 原子層積層法による六方晶バリウムフェライト薄膜の作製
- 原子層積層法による六方晶バリウムフェライト薄膜の作製
- 原子層積層法による六方晶バリウムフェライト薄膜の作製
- S層R層交互積層膜の熱処理によるBaフェライト薄膜の作製
- 原子層成長法によるC軸配向Baフェライト薄膜の構造と磁気特性
- スパッタ法を用いた有機EL素子用低温ITO薄膜の検討(薄膜プロセス・材料,一般)
- 交互積層法によるMg-Cu薄膜の特性の検討(薄膜プロセス・材料,一般)
- Al下地膜上へのSrAl_2O_4薄膜の剥離抑制の検討(薄膜プロセス・材料,一般)
- Mg膜とNi膜の膜厚比を変化させたMg-Ni薄膜の光学的特性(薄膜プロセス・材料,一般)
- スパッタ法により作製したMg-Ni薄膜の特性
- スパッタたい積後空気中熱処理によるSrAl_2O_4薄膜の特性(電子材料)
- ATR法を用いた金属スパッタ薄膜の特性評価
- FTS法にUBMS法を組み合わせたSrAl_2O_4:Eu,Dy薄膜の作製(薄膜プロセス・材料,一般)
- スパッタ法によるMg系合金薄膜の特性の検討(薄膜プロセス・材料,一般)
- スパッタ法による Eu を付活した SrAl_2O_4 薄膜の作製
- スパッタ法により作製したパーマロイ薄膜の機械的特性
- スパッタ堆積後熱処理によるSrAl_2O_4薄膜の特性制御
- 新潟大学工学部における新入生を対象とした補習教育とその後の成績の追跡調査について
- 室温にてスパッタ法により作製したAZO薄膜の特性の検討
- スパッタ法によるSrAl_2O_4薄膜の高速堆積法の検討(薄膜プロセス・材料,一般)
- 28p-ZH-5 He放電のスペクトル特性に及ぼす不均一磁界の影響
- 4a-TC-8 波束の特性とプラズマパラメータに及ぼす不均一磁界の影響
- 偏光解析法を用いたAgスパッタ薄膜の初期成長過程の考察
- 6)原子層積層法による六方晶バリウムフェライト薄膜の作製(画像情報記録研究会)
- 4p-P-7 電離波動によってゆらぐプラズマパラメーターのプローブ測定
- 4p-P-3 火炎プラズマへのプローブ測定の応用
- 高校理科教員を対象とした指導力向上研修の実践 : 磁界可視化装置の製作
- 熱処理法によるアルミン酸ストロンチウム薄膜の作製(薄膜プロセス・材料,一般)
- 熱処理法によるアルミン酸ストロンチウム薄膜の作製
- C-6-8 フレキシブル有機EL素子用ITO薄膜の検討(C-6.電子部品・材料,一般セッション)
- 低電圧スパッタ法を用いた室温成膜AZO薄膜の特性(材料デバイスサマーミーティング)
- 低電圧スパッタ法を用いた室温成膜AZO薄膜の特性(材料デバイスサマーミーティング)
- 低電圧スパッタ法を用いた室温成膜AZO薄膜の特性(材料デバイスサマーミーティング)
- 電子エネルギー分布関数に及ぼす磁界の影響
- 低電圧駆動フレキシブル有機EL素子のためのITO薄膜の検討(薄膜プロセス・材料,一般)
- RF-DC結合形スパッタ法による室温成膜AZO薄膜の特性(薄膜プロセス・材料,一般)
- 4p-P-5 陽光柱内を伝搬する波束に及ぼす不均一磁界の影響II
- プラスチック基板上に作製したITO膜及び有機EL素子の機械的特性 (電子部品・材料)
- 熱処理法によるSrAlO:Eu,Dy薄膜用下地膜の検討 (電子部品・材料)
- 熱処理法によるSrAl_2O_4:Eu,Dy薄膜用下地膜の検討(薄膜プロセス・材料,一般)
- スパッタ法によるAZO薄膜の抵抗率の検討(薄膜プロセス・材料,一般)
- プラスチック基板上に作製したITO膜及び有機EL素子の機械的特性(薄膜プロセス・材料,一般)
- Mg薄膜への添加金属による調光ミラー特性の検討