スパッタ法によるSrAl_2O_4薄膜の高速堆積法の検討(薄膜プロセス・材料,一般)

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概要

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対向ターゲット式スパッタ(FTS)法及びマグネトロンスパッタ(MS)法を用いて膜を堆積した後,3.0×10^<-3>Paまで排気した真空中,1000℃にて熱処理する方法により,SrAl_2O_4:Eu^<2+>,Dy^<3+>膜を作製するとともに,膜堆積法の違いによる堆積速度や薄膜の特性の検討を行った。その結果,堆積速度においては,FTS法よりMS法の方が速かった。しかし,MS法において酸素分圧を増加すると,堆積速度が減少し,酸素分圧0.1Paでは,FTS法とMS法による堆積速度は,ほぼ同じであった。また,FTS法を用いて膜を堆積した後,熱処理する方法により作製した膜は,MS法を用いた場合に比べ,結晶性及び発光特性の優れた膜が形成できることが分かった。これのことから,良好な特性を有するSrAl_2O_4:Eu^<2+>,Dy^<3+>膜の高速成膜を検討するには,FTS法を用いて検討することが重要であると考えられた。
2009-10-22

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