スパッタ法によるTiO_2薄膜堆積中の基板入射粒子の観察
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概要
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金属Tiターゲットおよび酸化物TiO_2ターゲットをAr+酸素混合ガス中でスパッタした時に基板に入射・堆積するスパッタ粒子の状態を、質量分析装置および発光分光分析装置を用いて調べた。その結果、スパッタガス中の酸素ガス量を増していくと、ターゲット表面がほとんど酸化物で覆われるようになるある酸素ガス圧から急にTi+イオン以外にTiO+イオンやTiO_2+イオンが観察されるようになり、発光スペクトルにも酸素からの発光スペクトルが観測されるようになること、それに対応して、透明なTiO_2薄膜が得られることが分かった。このことは、酸化物をスパッタすると、Tiや酸素原子以外にTiOやTiO_2などの分子状でも放出されること示唆していた。一方、酸化物ターゲットを用いた場合には、スパッタガス中の酸素ガス量を3%以下に減らすと、堆積速度が急激に増加し、高速成膜法として有効であることが分かった。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2001-10-19
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