スパッタビーム堆積法によるITO薄膜の低温成膜

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概要

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低温でも良好な特性をもつ低抵抗なITO透明導電膜を得るため、基板に対して垂直に近い入射角度をもつ堆積粒子の運動エネルギーをそのまま利用できるスパッタビーム堆積法を用いて、ITO薄膜の室温付近での堆積を試み、得られた膜の構造的、電気的および光学的特性を調べた。その結果、スパッタ源内ガス圧0.7mTorrにおいて、結晶質のITO膜が得られ、2mTorr以上のスパッタ源内ガス圧では、非晶質に近い膜が得られた。これらの膜は、優れた表面平滑性をもち、さらに、7.2×10^<-4>Ω・cmから3×10^<-4>Ω・cmの低い低効率とともに可視光において高い透過率を示した。これらの結果は、スパッタビーム堆積法が表面平滑性に優れた低抵抗率をもつITO透明導電膜を低温で得る方法として有効であることを示している。
社団法人電子情報通信学会の論文
2000-10-19

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