スパッタガス圧によるバリウムフェライト薄膜の組成変化の機構

概要

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本研究ではバリウムフェライトなどのスパッタにおいて、スパッタ膜の組成を変化させる原因の一つと考えられた、スパッダガスとスパッタ粒子との衝突・散乱過程について、計算機シミュレーションを用いて詳細に検討した。その結果 (1) BaとFeのように質量に大きな差異がある複数の元素からなる物質をスパッタする場合、スパッタ粒子が、基板に到達するまでの間にスパッタガスとの衝突・散乱によって、基板位置や、スパッタガス圧に依存した、かなり大きな組成の変化が起こる可能性があること、(2) スペッタ粒子とスパッタガスとの衝突・散乱による組成ずれは、基板に到達するスパッタ粒子の数が、スパッタ粒子の質量に強く依存して変化するために起こること。(3) スパッタガス圧やスパッタガスの種類を変えて膜を作製する場合、スパッタガスとの衝突により、元素により基板に到達する数が大きく変化する可能性があることを十分考慮して、膜を作製する必要があること。等を明らかにした。
社団法人電子情報通信学会の論文
1997-10-31