AlGaN/GaN 2DEG 構造の熱的安定性におけるSiN保護膜の効果

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概要

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• 2003-09-26

著者

• 塩島 謙次

  日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所

• 重川 直輝

  日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所

• 杉谷 末広

  日本電信電話(株)

• 塩島 謙次

  NTTフォトニクス研究所

• 杉谷 末広

  日本電信電話株式会社 Nttフォトニクス研究所

• 杉谷 末広

  Ntt フォトニクス研

• 杉谷 末広

  日本電信電話株式会社nttフォトニクス研究所

• 杉谷 末広

  NTTシステムエレクトロニクス研究所

• 杉谷 末広

  Ntt システム・エレクトロニクス研

• 重川 直輝

  Ntt フォトニクス研

• 重川 直輝

  日本電信電話株式会社

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