Low-Frequency Noise in Si_<1-x>Ge_x p-Channel Metal Oxide Semiconductor Field-Effect Transistors : Semiconductors
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 2001-09-15
著者
-
松浦 孝
東北大学電気通信研究所超高密度・高速知能システム実験施設
-
土屋 敏章
島根大学 総合理工学部
-
室田 淳一
東北大学
-
室田 淳一
東北大学 電気通信研究所
-
Tsuchiya T
National Inst. Advanced Industrial Sci. And Technol. Ibaraki Jpn
-
Tsuchiya T
Department Of Electronics Doshisha University
-
TSUCHIYA Toshiaki
Interdisciplinary Faculty of Science and Engineering, Shimane University
-
MATSUURA Takashi
Research Institute of Electrical Communication, Tohoku University
-
MUROTA Junichi
Research Institute of Electrical Communication, Tohoku University
-
Matsuura T
Hokkaido Univ. Education Hakodate Jpn
-
Tsuchiya Toshiharu
Faculty Of Engineering Shizuoka University
-
Murota Junichi
Research Institute For Electrical Communications Tohoku University
-
Tsuchiya Takenobu
Department Of Electrical Electronics And Information Engineering Kanagawa University
-
Matsuura Takashi
Research Institute Of Electrical Communication Tohoku University
-
Tsuchiya Toshiaki
Interdisciplinary Faculty Of Science And Engineering Shimane University
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