Si(100)表面ダイマー構造の大気中での安定性
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概要
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高清浄減圧CVDによりSi(100)表面に形成されたダイマー構造の大気中での安定性を反射高速電子線回折により調べた。CVD Si(100)表面からは、表面を大気にさらした後でも、明瞭な二倍周期ダイマー構造が観察された。このダイマー構造の大気中での安定性は、CVD後の冷却雰囲気あるいはさらされる大気の湿度に依存することを見い出し、ダイマー構造の破壊はCVD後の冷却過程での水素吸着により抑えられるとして説明した。また、XPSによる表面の酸素量の測定から、ダイマー構造の破壊は水分の吸着による酸化と同時に進行することを明らかにした。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1993-10-22
著者
-
室田 淳一
東北大学電気通信研究所
-
小野 昭一
東北大学電気通信研究所
-
櫻庭 政夫
東北大学電気通信研究所附属超高密度・高速知能システム実験施設
-
室田 淳一
東北大学 電気通信研究所
-
櫻庭 政夫
東北大学
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