プラズマCVD法による波長1.3μm帯用積層型偏光分離素子の作製
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概要
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これまでに誘電体交互多層膜の構造異方性を利用した積層型偏光分離素子(laminated polarization splitter : LPS)は波長1.55μm帯用のものがa-Si:H/SiO_2の組み合わせでスパッタリング法により製作されている。しかし、波長1.3μm帯ではa-Si:Hのバンド間吸収により吸収損失が大きくなる。a-Si:Hはバンドギャップエネルギーがa-Sic:Hに比べて大きいので1.3μm帯での吸収が小さくなる事が期待できる。そこで我々はa-Si:H/SiO_2交互多層膜からなる1.3μm帯用LPSを作製し評価を行ったので報告する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1995-03-27
著者
-
川上 彰二郎
東北大学電気通信研究所
-
花泉 修
東北大学電気通信研究所
-
室田 淳一
東北大学電気通信研究所
-
室田 淳一
東北大学 電気通信研究所
-
花泉 修
群馬大学大学院工学研究科
-
高橋 功
東北大学電気通信研究所
-
季 慵基
東北大学電気通信研究所
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