RFバイアススパッタリング法による滑らかな側面をもつ石英系光導波路の作製方法
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概要
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本論文ではまず石英系導波路を作製するプロセスにおいて重要なスパッタ埋込プロセスを詳しく検討した.すなわちリッジ部分におけるSiO_2の堆積過程およびその堆積膜側面の平滑化を実験およびシミュレーションにより詳しく検討している.rfバイアススパッタリング法を利用した滑らかな側面をもつ石英系3次元光導波路の新しい形成方法を提案している.この方法は,あらかじめ作製したリッジの部分に,rfバイアススパッタリング法により断面形状が三角形または台形の導波路を作製するものである.また,三角形のコアを持つ導波路について,PBM(Propagating Beam Method)により導波解析を行っている.以上の結果から,この導波路形成方法の有用性を示している.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1993-01-25
著者
-
白石 和男
宇都宮大学大学院工学研究科情報制御システム科学
-
川上 彰二郎
東北大学電気通信研究所
-
白石 和男
宇都宮大学大学院工学研究科
-
秋葉 健次
東北大学電気通信研究所(日立電線株式会社)
-
白石 和男
宇都宮大学
-
竹形 宣彦
東北大学電気通信研究所(西日本旅客鉄道株式会社)
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