自己クローニングによる3次元フォトニック結晶の作製と応用
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概要
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3次元フォトニック結晶はバンドギャップあるいは伝搬域の異方性・分散性を利用することで魅力的な新機能光デバイスを創生することが可能である.これを実現するためには, 周期数に制限のないサブミクロン周期3次元構造を, 信頼性・再現性および設計自由度の高い方法で構成することが必要不可欠である.筆者らは, バイアススパッタリングにより基板表面の凹凸パターンを複製しながら多層膜を堆積する自己クローニングを利用して3次元フォトニック結晶を作製している.この方法は, 上記の要求に対して極めて適応性が高い.本論文では, この方法による3次元周期構造の作製メカニズム, FDTD法により求めた伝搬特性, 導波路をはじめとする応用デバイスについて述べる.
- 1998-10-25
著者
-
大寺 康夫
東北大学大学院工学研究科
-
川上 彰二郎
東北大学電気通信研究所
-
竹井 良彦
東北大学電気通信研究所
-
花泉 修
東北大学電気通信研究所
-
川嶋 貴之
東北大学電気通信研究所
-
大寺 康夫
東北大学電気通信研究所
-
佐藤 尚
東北大学電気通信研究所
-
三浦 健太
群馬大学大学院工学研究科
-
花泉 修
群馬大学大学院工学研究科
-
三浦 健太
東北大学電気通信研究所
-
安田 納章
東北大学電気通信研究所
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