自己クローニング型フォトニック結晶導波路の低損失化(光エレクトロニクス)
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概要
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自己クローニング法により作製されるヘテロ構造フォトニック結晶導波路は, 他の機能性素子と一括作製が可能なため, 次世代高機能平面光回路用の要素部品として有利である.本導波路を光回路の配線として利用する場合, その伝搬損はできるだけ小さいことが望まれる.今回は, 構成材料にTa_2O_5/SiO_2を選択し, 更に散乱損を最小限に抑える導波路構造を採用することで, 大幅な低損失化に成功したので報告する.特に, コアをシンプルな平たん多層膜構造とすることが効果的で, 伝搬損0.1dB/mmまでの損失低減を達成した.本導波路は, 既存の光ファイバ(モードフィールド径2.7μmの高Δファイバ)との結合損も0.43dBと小さく, 光ファイバ通信システムへの適用が容易である.以上により, ヘテロ構造フォトニック結晶導波路が, 極めて実用性に富む素子であることを実証した.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2005-04-01
著者
-
川上 彰二郎
(株)フォトニックラティス
-
佐藤 尚
(株)フォトニックラティス
-
大寺 康夫
東北大学大学院工学研究科
-
川嶋 貴之
(株)フォトニックラティス
-
川上 彰二郎
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
三浦 健太
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
大寺 康夫
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
大久保 博行
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
阿久津 直人
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
日景 正広
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
石野 直人
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
三浦 健太
群馬大学大学院工学研究科
-
石野 直人
東北大学電気通信研究所
-
川上 彰二郎
東北大通研
-
阿久津 直人
東北大学niche
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