佐藤 尚 | (株)フォトニックラティス

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概要

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関連著者

• 佐藤 尚

  (株)フォトニックラティス

• 川上 彰二郎

  (株)フォトニックラティス

• 川嶋 貴之

  (株)フォトニックラティス

• 川上 彰二郎

  東北大通研

• 佐藤 尚

  東北大学電気通信研究所

• 佐藤 尚

  富士通株式会社

• 井上 喜彦

  (株)フォトニックラティス

• 川上 彰二郎

  株式会社フォトニックラティス

• 佐藤 尚

  株式会社フォトニックラティス

• 川嶋 貴之

  株式会社フォトニックラティス

• 井上 喜彦

  株式会社フォトニックラティス

• 本間 洋

  (株)フォトニックラティス

• 長嶋 聖

  株式会社山武 ビルシステムカンパニー 開発本部

• 太田 晋一

  宮城県産業技術総合センター

• 千葉 貴史

  仙台応用情報学研究振興財団

• 千葉 貴史

  日立電線

• 青木 孝文

  東北大学大学院情報科学研究科

• 長嶋 聖

  東北大学大学院情報科学研究科

• 青山 勉

  (株)フォトニックラティス

• 本間 洋

  株式会社フォトニックラティス

• Aoki Takafumi

  Graduate School Of Information Sciences Tohoku University:(present Address)presto Jst.

• 橋本 直樹

  Jst研究成果活用プラザ宮城

• 上塚 尚登

  日立電線(株)

• 上塚 尚登

  日立電線株式会社 フォトニクス研究開発センタ

• 上塚 尚登

  日立電線(株)オプトロシステム研究所

• 長嶋 聖

  東北大院情報科学

• 青木 孝文

  東北大院情報科学

• 本間 洋

  JST研究成果活用プラザ宮城

• 千葉 貴史

  日立電線(株)

• 石川 理

  (株)フォトニックラティス

• 川上 彰二郎

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• ファーブル ローラン

  (株)フォトニックラティス

• 上塚 尚登

  日立電線株式会社 フォトニクス研究開発センタ:光産業技術振興協会

• 永沼 充

  帝京科学大学

• 中尾 正史

  日本電信電話株式会社:nttフォトニクス研究所:(現)東北大学金属材料研究所

• 中岡 宏

  早稲田大学理工学部

• 本間 圭祐

  早稲田大学理工学部

• 宇高 勝之

  早稲田大学理工学部

• 井筒 雅之

  (独)情報通信研究機構

• 大寺 康夫

  東北大学大学院工学研究科

• 宇高 勝之

  早稲田大学理工学術院

• 小形 哲也

  (株)リコー

• 太田 晋一

  東北大院情報科学

• 宇高 勝之

  早稲田大学大学院理工学研究科

• 三浦 健太

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 大寺 康夫

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 佐々木 良裕

  東北大学大学院工学研究科

• 大久保 博行

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 阿久津 直人

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 日景 正広

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 石野 直人

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 川上 彰二郎

  東北大学大学院工学研究科

• 三浦 健太

  群馬大学大学院工学研究科

• 石野 直人

  東北大学電気通信研究所

• 阿久津 直人

  東北大学niche

• 永沼 充

  帝京科大

• 中尾 正史

  日本電信電話株式会社 Nttフォトニクス研究所

• 井筒 雅之

  独立行政法人 通信総合研究所

• 宇高 勝之

  早稲田大学

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著作論文

• フォトニック結晶を用いた偏光イメージング技術と応用 (特集 ファンクショナル・イメージングデバイス)
• 2光束干渉露光法による大面積二次元周期構造を用いた多次元フォトニック結晶構造装荷InAlGaAs多重量子井戸構造の光励起発光特性(ナノ光技術・電子技術,次世代ナノテクノロジー論文)
• フォトニック結晶偏光子を用いた偏光イメージングカメラの開発(ナノ光技術・電子技術,次世代ナノテクノロジー論文)
• フォトニック結晶を用いた偏光イメージングセンサーと産業応用 (最近の偏光計測の動向)
• フォトニック結晶を用いた偏光計測デバイスへの応用
• フォトニック結晶偏光素子と2次元偏光計測の応用(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
• フォトニック結晶の偏光計測への応用(微細構造による光機能性界面の創出)
• 3D周期構造の技術開発とベンチャー起業
• パターン化偏光子を用いた偏光イメージングデバイスの開発と応用(システムLSIの応用と要素技術,専用プロセッサ,プロセッサ,DSP,画像処理技術,及び一般)
• フォトニック結晶素子と光情報の記録,撮像,表示への応用(光記録技術,一般)
• C-3-92 フォトニック結晶偏光子を集積した偏光イメージングカメラの開発(パッシブデバイス(2),C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
• D-11-52 パターン化偏光子を用いた偏光イメージングデバイスと利用技術の開発(D-11.画像工学B(画像デバイス・装置),一般講演)
• C-3-75 フォトニック結晶アレイ応用デバイスの実用化動向(フォトニック結晶,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
• C-3-106 PMDマネージメント向け小型・高精度DOPモニタの開発(C-3. 光エレクトロニクス(分散補償), エレクトロニクス1)
• C-3-112 小型・高精度フォトニック結晶偏波モニタ(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
• SC-1-5 自己クローニングフォトニック結晶デバイス
• C-3-41 フォトニック結晶偏光子を用いた小型アイソレータの諸特性
• 光産業の共通ツールとしてのフォトニック結晶
• C-3-72 フォトニック結晶偏光素子アレイと計測システムへの応用(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
• パターン化偏光子を用いた偏光イメージングデバイスの開発と応用(システムLSIの応用と要素技術,専用プロセッサ,プロセッサ,DSP,画像処理技術,及び一般)
• パターン化偏光子を用いた偏光イメージングデバイスの開発と応用(システムLSIの応用と要素技術,専用プロセッサ,プロセッサ,DSP,画像処理技術,及び一般)
• パターン化偏光子を用いた偏光イメージングデバイスの開発と応用(システムLSIの応用と要素技術,専用プロセッサ,プロセッサ,DSP,画像処理技術,及び一般)
• フォトニック結晶偏光素子と2次元偏光計測の応用(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
• フォトニック結晶偏光素子と2次元偏光計測の応用(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
• フォトニック結晶偏光素子と2次元偏光計測の応用(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
• 自己クローニング型フォトニック結晶導波路の低損失化(光エレクトロニクス)
• フォトニック結晶を用いた並列処理型エリプソメータ
• フォトニック結晶を用いた偏光イメージングセンサーと産業応用

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