川上 彰二郎 | 東北大学未来科学技術共同研究センター
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概要
関連著者
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川上 彰二郎
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
大寺 康夫
東北大学大学院工学研究科
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大寺 康夫
東北大学未来科学技術共同研究センター
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川上 彰二郎
東北大通研
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三浦 健太
群馬大学大学院工学研究科
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川嶋 貴之
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
三浦 健太
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
石野 直人
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
川上 彰二郎
(株)フォトニックラティス
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大寺 康夫
東北大学電気通信研究所
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佐藤 尚
東北大学未来科学技術共同研究センター
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石野 直人
東北大学電気通信研究所
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大久保 博行
東北大学未来科学技術共同研究センター
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玉村 敏昭
Ntt物性科学基礎研究所:nttエレクトロニクス
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玉村 敏昭
Ntt物性科学基礎研究所
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小澤 章
Nttアドバンステクノロジ
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川嶋 貴之
(株)フォトニックラティス
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佐藤 尚
東北大学電気通信研究所
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酒井 義剛
東北大学電気通信研究所
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佐々木 良裕
東北大学大学院工学研究科
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三浦 健太
東北大学電気通信研究所
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黒川 兼行
電子情報通信学会
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宮城 光信
仙台高等専門学校
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宮城 光信
東北大学工学部
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宮城 光信
東北大学工学研究科
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川上 彰二郎
東北大学未来科学技術共同研究センター:科学技術振興事業団
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阿久津 直人
東北大学未来科学技術共同研究センター
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馬場 亮吉
東北大学未来科学技術共同研究センター
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ジョンソン スティーブン
マサチューセッツ工科大学
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佐々木 良裕
東北大学未来科学技術共同研究センター
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阿久津 直人
東北大学niche
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鵜養 和邦
東北大学電気通信研究所
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玉村 敏昭
NTT光エレクトロニクス研究所
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佐藤 尚
(株)フォトニックラティス
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花泉 修
東北大学電気通信研究所
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石川 理
(株)フォトニックラティス
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石川 理
科学技術振興事業団
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日景 正広
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
柳澤 眞太郎
株式会社テスコム
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スティーブン ジョンソン
マサチューセッツ工科大
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花泉 修
群馬大学大学院工学研究科
-
ジョンソン スティーブン
マサチューセッツ工科大
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黒川 兼行
東北大学未来科学技術共同研究センター(NICHe)
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澤谷 邦男
東北大学大学院工学研究科
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佐藤 弘康
東北大学大学院工学研究科
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五明 明子
日本電気
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渡辺 貴之
東北大学大学院工学研究科
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白根 昌之
Nec基礎・環境研究所
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千葉 貴史
仙台応用情報学研究振興財団
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井上 喜彦
(株)フォトニックラティス
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本間 洋
(株)フォトニックラティス
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千葉 貴史
日立電線(株)
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藤村 厚
東北大学電気通信研究所
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本間 洋
NEC トーキン株式会社
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千葉 貴史
東北大学電気通信研究所
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五明 明子
NEC基礎研
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山田 博仁
NEC基礎研
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三浦 健太
科学技術振興機構
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五明 明子
MIRAI-Selete
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大場 裕行
株式会社トーキン
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大場 裕行
(株)トーキン光デバイス事業推進部
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日景 正広
日立電線(株)
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山田 博仁
東北大学大学院工学研究科
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スティーブン ジョンソン
マサチューセッツ工科大学
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千葉 貴史
日立電線
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五明 明子
Nec基礎・環境研究所
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澤谷 邦男
東北大学大学院 工学研究 科電気通信工学専攻
著作論文
- 光産業の共通ツールとしてのフォトニック結晶
- C-4-10 2次元フォトニック結晶偏光分離素子を用いた光アイソレータの作製と評価
- C-2-76 2 種類の誘電体によるフォトニック結晶共振器の数値解析
- 光は直進するか?
- 国語力について考える : ものを生み出し, 作り出す道具として
- 解析解をもつフォトニック結晶構造とその電磁界
- C-3-49 自己クローニング型フォトニック結晶による光アド・ドロップマルチプレクサ(フォトニック結晶)(C-3.光エレクトロニクス)
- 自己クローニング型フォトニック結晶導波路の低損失化(光エレクトロニクス)
- C-3-98 偏波制御用液晶回転波長板の作製(光受動部品)(C-3.光エレクトロニクス)
- C-3-50 自己クローニング型フォトニック結晶によるインライン型High-Q共振器(フォトニック結晶)(C-3.光エレクトロニクス)
- 3次元フォトニック結晶導波路の基準解析解とモードのスペクトル(光エレクトロニクス)
- C-3-47 フォトニック結晶における導波路モードと連続波との結合について
- C-3-46 ヘテロ構造フォトニック結晶導波路への Bragg 反射機能の付与
- C-4-6 石英ガラス上及び磁性ガーネット基板上直接加工型フォトニック結晶偏光分離素子の作製と評価
- SC-4-14 格子変調型フォトニック結晶の作製と波長選択フィルタへの応周
- EMD2000-45 / CPM2000-60 / OPE2000-57 / LQE2000-51 Ta_2O_5/SiO_2系フォトニック結晶からなる青紫色波長用複屈折素子の作製とその特性
- EMD2000-44 / CPM2000-59 / OPE2000-56 / LQE2000-50 格子変調型フォトニック結晶導波路の解析と作製
- EMD2000-45 / CPM2000-60 / OPE2000-57 / LQE2000-51 Ta_2O_5/SiO_2系フォトニック結晶からなる青紫色波長用複屈折素子の作製とその特性
- EMD2000-44 / CPM2000-59 / OPE2000-56 / LQE2000-50 格子変調型フォトニック結晶導波路の解析と作製
- EMD2000-45 / CPM2000-60 / OPE2000-57 / LQE2000-51 Ta_2O_5/SiO_2系フォトニック結晶からなる青紫色波長用複屈折素子の作製とその特性
- EMD2000-44 / CPM2000-59 / OPE2000-56 / LQE2000-50 格子変調型フォトニック結晶導波路の解析と作製
- C-3-43 自己クローニング法により作製したコア平坦型フォトニック結晶導波路の低損失化
- C-4-9 ヘテロ構造を持つフォトニック結晶の作製
- リッジ型光周波数シフタ (光集積回路特集)
- 微小方向性結合型光スイッチ (光集積回路特集)
- ヘテロ構造フォトニック結晶の導波型光デバイスへの応用
- C-4-10 ヘテロ構造フォトニック結晶からなる機能性導波路チップの設計と評価
- C-4-8 Ta_2O_5/SiO_2系格子変調型フォトニック結晶導波路の低損失伝搬特性
- 自己クローニングフォトニック結晶の面内伝搬応用
- 自己クローニングフォトニック結晶の面内伝搬応用
- 自己クローニングフォトニック結晶の面内伝搬応用
- 自己クローニングフォトニック結晶の面内伝搬応用
- フォトニック結晶の自己クローニング法による作製技術(フォトニック結晶)
- 自己クローニングによるフォトニック結晶の作製とデバイス応用技術
- SC-4-11 自己クローニング型フォトニック結晶とその応用素子の現状
- C-4-7 Ta_2O_5/SiO_2系3次元フォトニック結晶を用いた多波長選択フィルタの一括作製と評価
- 変分表現式を利用したフォトニック結晶導波路の解析
- 変分表現式を利用したフォトニック結晶導波路の解析
- 変分表現式を利用したフォトニック結晶導波路の解析
- 変分表現式を利用したフォトニック結晶導波路の解析
- C-3-133 3 次元フォトニック結晶導波路の基準解析解について
- C-1-28 屈折率周期構造の固有周波数解析における変分表現の利用 : 定量評価
- 回転電界駆動による液晶偏光制御デバイス
- 2次元フォトニック結晶導波路の構造単純化モデルによる特性解析
- 自己クローニング法によるフォトニック結晶の作製と光学デバイスへの応用
- 解析解をもつフォトニック結晶構造とその電磁界