EMD2000-45 / CPM2000-60 / OPE2000-57 / LQE2000-51 Ta_2O_5/SiO_2系フォトニック結晶からなる青紫色波長用複屈折素子の作製とその特性
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
可視光域2次元フォトニック結晶を、シンプルな作製方法である自己クローニング法により、TiO_2/SiO_2系よりも短い波長範囲で吸収損失が小さいTa_2O_5/SiO_2系で作製し、その異方性(複屈折性)を利用した青紫色波長用の複屈折素子(1/4波長板、半波長板)を試作した。自己クローニング型フォトニック結晶素子は、従来の素子に比べ、小型、軽量、安価なことなど、様々な優位性をもっているため、次世代大容量DVD用光ピックアップヘッドなど、幅広い光エレクトロニクス分野への応用が期待される。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
著者
-
玉村 敏昭
NTT光エレクトロニクス研究所
-
玉村 敏昭
Ntt物性科学基礎研究所:nttエレクトロニクス
-
大寺 康夫
東北大学大学院工学研究科
-
川上 彰二郎
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
玉村 敏昭
Ntt物性科学基礎研究所
-
大寺 康夫
東北大学電気通信研究所
-
佐藤 尚
東北大学電気通信研究所
-
小澤 章
Nttアドバンステクノロジ
-
石野 直人
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
三浦 健太
群馬大学大学院工学研究科
-
三浦 健太
東北大学電気通信研究所
-
石野 直人
東北大学電気通信研究所
関連論文
- 自己クローニング型フォトニック結晶による波長選択フィルターを用いた近赤外イメージングの検討(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- 自己クローニング型フォトニック結晶による波長選択フィルターを用いた近赤外イメージングの検討(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- Si細線光導波路の曲がり損失の数値解析(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- SOI導波路基板上へのLDチップ実装方法に関する検討(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- 30nmゲートInAlAs/InGaAs HEMTとその高周波特性
- 20pTA-5 Auマイクロキャピラリーターゲットを通過した低速多価イオンの高分解能軟X線分光 II
- 電子線露光技術を用いた電子波干渉トランジスタの作製とその評価
- 位置制御自己組織化成長法による三次元周期半導体構造
- 放射光照射によるポリイミド光導波路回折格子の作製
- 半導体結晶成長における自己集合化と自己組織化-GaAs(311)面上のInGaAsナノ構造形成-
- J-down狭放射角InGaAs/AlGaAs歪量子井戸LDの高出力特性
- 高出力波長安定化1.016μm歪InGaAs-LDモジュール
- 偏波無依存LD型光ゲートスイッチ
- 自己組織化InGaAs歪量子デイスクと半導体レーザ応用 (招待講演)
- 電子線描画ポリイミド光導波路の特性
- 狭放射角InGaAs歪量子井戸レーザとコア拡大付FBGとの高効率結合
- 半導体モノリシックAdd-Drop-Multiplexer
- GaAs(311) B基板上のInGaAs自己組織化現象と極微細レーザーへの応用
- ファイバブラッググレーテイングによる波長安定化1.016μmInGaAs歪量子井戸レーザと1.3μm帯Prドープ光ファイバ増幅器への応用
- 半導体モノリシック選択波長ルーター
- 自己クローニング型フォトニック結晶の波長フィルターへの応用(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- 凹凸多層膜による可視・近赤外用波長フィルター(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- C-3-73 吸光媒質可視化用フォトニック結晶型波長フィルターの検討(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-117 Si/SiO_2系フォトニック結晶偏光分離素子
- フルウェハプロセスによる高出力1.02μm InGaAs歪量子井戸レーザダイオード
- C-3-49 自己クローニング型フォトニック結晶による光アド・ドロップマルチプレクサ(フォトニック結晶)(C-3.光エレクトロニクス)
- 自己クローニング型フォトニック結晶光導波路の研究--次世代光通信応用にむけて
- C-3-84 液晶装荷による可変機能フォトニック結晶導波路の検討(C-3. 光エレクトロニクス(フォトニック結晶), エレクトロニクス1)
- C-3-80 フォトニック結晶アレイを用いた波長分割イメージングデバイス(C-3. 光エレクトロニクス(フォトニック結晶), エレクトロニクス1)
- C-1-20 変分表現とFDTD法の連携による周期構造の遮断特性の計算(C-1. 電磁界理論, エレクトロニクス1)
- 自己クローニング型フォトニック結晶導波路の低損失化(光エレクトロニクス)
- C-3-98 偏波制御用液晶回転波長板の作製(光受動部品)(C-3.光エレクトロニクス)
- C-3-50 自己クローニング型フォトニック結晶によるインライン型High-Q共振器(フォトニック結晶)(C-3.光エレクトロニクス)
- 3次元フォトニック結晶導波路の基準解析解とモードのスペクトル(光エレクトロニクス)
- C-3-47 フォトニック結晶における導波路モードと連続波との結合について
- C-3-46 ヘテロ構造フォトニック結晶導波路への Bragg 反射機能の付与
- SOI導波路基板上へのLDチップ実装方法に関する検討(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- C-4-9 Ta_2O_5/SiO_2 系3次元フォトニック結晶フィルタを用いた AWG の低クロストーク化
- 29p-E-5 フォトニック結晶の異方性分散応用 : レンズ・コリメータ現象
- ZnO非線形光学効果光導波路(光パッシブコンポーネント(フィルタ,コネクタ,MEMS),シリコンフォトニクス,光ファイバ,一般)
- 偏波無依存ゲート型光スイッチ
- 30nmゲートInAlAs/InGaAs HEMTとその高周波特性
- 30nmゲートInAlAs/InGaAs HEMTとその高周波特性
- SOI基板を用いた酸化物クラッド2次元フォトニック結晶
- SC-4-14 格子変調型フォトニック結晶の作製と波長選択フィルタへの応周
- SC-4-2 SiフォトニクスにむけたSi系フォトニック結晶
- Ta_2O_5/SiO_2系フォトニック結晶からなる青紫色波長用複屈折素子の作製とその特性
- EMD2000-45 / CPM2000-60 / OPE2000-57 / LQE2000-51 Ta_2O_5/SiO_2系フォトニック結晶からなる青紫色波長用複屈折素子の作製とその特性
- EMD2000-44 / CPM2000-59 / OPE2000-56 / LQE2000-50 格子変調型フォトニック結晶導波路の解析と作製
- EMD2000-45 / CPM2000-60 / OPE2000-57 / LQE2000-51 Ta_2O_5/SiO_2系フォトニック結晶からなる青紫色波長用複屈折素子の作製とその特性
- EMD2000-44 / CPM2000-59 / OPE2000-56 / LQE2000-50 格子変調型フォトニック結晶導波路の解析と作製
- EMD2000-45 / CPM2000-60 / OPE2000-57 / LQE2000-51 Ta_2O_5/SiO_2系フォトニック結晶からなる青紫色波長用複屈折素子の作製とその特性
- EMD2000-44 / CPM2000-59 / OPE2000-56 / LQE2000-50 格子変調型フォトニック結晶導波路の解析と作製
- EMD2000-45 / CPM2000-60 / OPE2000-57 / LQE2000-51 Ta_2O_5/SiO_2系フォトニック結晶からなる青紫色波長用複屈折素子の作製とその特性
- EMD2000-44 / CPM2000-59 / OPE2000-56 / LQE2000-50 格子変調型フォトニック結晶導波路の解析と作製
- 28a-ZE-6 フォトニック結晶中の異常光伝播 : セルフコリメーション
- C-3-113 フォトニック結晶のPLC応用へ向けて-μLC
- フォトニック結晶のPLC応用に向けて : スーパープリズム現象
- 28a-YE-1 3次元フォトニック結晶における異常屈折現象
- 凹凸多層膜による可視・近赤外用波長フィルター(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- 凹凸多層膜による可視・近赤外用波長フィルター(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- 凹凸多層膜による可視・近赤外用波長フィルター(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- C-3-43 自己クローニング法により作製したコア平坦型フォトニック結晶導波路の低損失化
- C-3-42 フォトニック結晶偏波モニタの開発
- C-3-34 フォトニックエレメントによる偏波制御機能の検討(フォトニック結晶,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-31 分光イメージング用フォトニック結晶型波長フィルター(フォトニック結晶,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- ヘテロ構造フォトニック結晶の導波型光デバイスへの応用
- フォトニック結晶 : 機能性人工光学材料
- 自己クローニングによるフォトニック結晶の作製とデバイス応用技術
- SC-4-11 自己クローニング型フォトニック結晶とその応用素子の現状
- 2次元フォトニック結晶偏光分離素子の高性能化
- 2次元フォトニック結晶偏光分離素子の作製とその高性能化
- 可視域透明材料からなるホトニック結晶の作製
- 可視域透明材料からなるホトニック結晶の作製
- 自己クローニングによる3次元フォトニック結晶の作製と応用
- 自己クローニングによる3次元フォトニック結晶の作製と応用
- Si/SiO_2系サブミクロン周期3Dフォトニック結晶の作製と観察
- 自己クローニングによる3Dフォトニック結晶のプロセス・導波技術
- フォトニック結晶型波長フィルターを用いた色素の濃度測定の検討(光パッシブコンポネント(フィルタ、コネクタ、MEMS),シリコンフォトニクス,光ファイバ,一般)
- Si細線光導波路の曲がり損失の数値解析(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- Si/SiO_2系フォトニック結晶導波路の導波解析
- C-3-66 Al_2O_3をコアに用いた可変光導波路の検討(C-3. 光エレクトロニクス(導波路デバイス2), エレクトロニクス1)
- 自己クローニング型フォトニック結晶の波長フィルターへの応用(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- 変分表現式を利用したフォトニック結晶導波路の解析
- 変分表現式を利用したフォトニック結晶導波路の解析
- 変分表現式を利用したフォトニック結晶導波路の解析
- 変分表現式を利用したフォトニック結晶導波路の解析
- 変分表現式を利用したフォトニック結晶導波路の解析
- C-3-133 3 次元フォトニック結晶導波路の基準解析解について
- 熱制御型SSG-DBRレーザによる狭線幅、広域波長可変動作
- C-1-28 屈折率周期構造の固有周波数解析における変分表現の利用 : 定量評価
- C-3-79 環状配置したサブ波長格子からの共鳴反射(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-4 分光イメージング向け多層模型波長フィルター(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- フォトニックエレメントを用いた偏波制御機能の検討(光波センシング,光波制御・検出,光計測,ニューロ,一般)
- フォトニックエレメントを用いた偏波制御機能の検討(光波センシング,光波制御・検出,光計測,ニューロ,一般)
- 回転電界駆動による液晶偏光制御デバイス
- 格子変調型フォトニック結晶導波路の解析と作製
- C-3-26 ヘモグロビン分光イメージング計測用多層膜型フィルター(光計測・センシング(I),C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- 2次元フォトニック結晶導波路の構造単純化モデルによる特性解析
- C-3-64 共鳴モード格子を用いた円形共振器の共振特性(導波路解析(II),C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)